[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
申请号: | 201310226565.7 | 申请日: | 2013-06-07 |
公开(公告)号: | CN103488054A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 佐藤达弥;浦和宏;今吉孝二;安井亮辅 | 申请(专利权)人: | 株式会社有泽制作所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及曝光装置及曝光方法。
背景技术
已知的技术是一边对膜进行输送,一边对其进行曝光,从而使取向膜取向。
专利文献1:美国专利申请公开第2011/0217638号说明书
发明内容
发明要解决的问题
然而,在被曝光用的光照射的曝光区域中,正在输送的膜被逐渐加热,因此会在膜的上游侧与下游侧之间产生温度差。由此,存在如下问题:在膜上形成褶皱,曝光用的光无法以希望的角度照射膜表面。
用于解决问题的方案
在本发明的第一技术方案中提供了一种曝光装置,其包括:输送部,其用来输送长条状的膜;曝光部,其用来隔着掩模对由所述输送部正在输送的所述膜进行曝光;及冷却部,其用来对由所述曝光部正在进行曝光的所述膜进行冷却。
在本发明的第二技术方案中提供了一种曝光方法,其包括:输送步骤,输送长条状的膜;曝光步骤,隔着掩模对由所述输送步骤正在输送的所述膜进行曝光;及冷却步骤,对由所述曝光步骤正在进行曝光的所述膜进行冷却。
另外,上述发明内容并未列举出本发明的全部必要特征。此外,所述特征组的子组合也可以构成发明。
附图说明
图1是利用本实施方式所制造的光学膜100的整体俯视图。
图2是沿图1的II-II线的纵剖视图。
图3是设置有光学膜100的立体图像显示装置的分解立体图。
图4是本实施方式的曝光装置10的整体结构图。
图5是曝光部18的整体立体图。
图6是掩模38的仰视图。
图7是掩模38的沿图6的VII-VII线的纵剖视图。
图8是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图9是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图10是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图11是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图
图12是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图13是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图14是部分变更后的曝光部18的附近的放大示意图。
图15是调查膜冷却对取向角的影响的实验结果的表。
图16是调查膜90的褶皱与取向角的偏差的实验结果的图。
附图标记说明
10曝光装置;12送出辊;14取向膜涂布部;16取向膜干燥部;18曝光部;20液晶膜涂布部;22液晶膜取向部;24液晶膜硬化部;26分离膜供给部;28卷取辊;34偏振光光源;38掩模;40掩模保持部;44上游侧张力辊;46下游侧张力辊;48保持辊;50第1偏振光输出部;52第2偏振光输出部;54流路;56掩模基材;58遮光层;62第1透过区域;64第2透过区域;90膜;92分离膜;100光学膜;102树脂基材;104第1偏振光调制部;106第2偏振光调制部;110箭头;112箭头;114箭头;116箭头;120取向膜;122液晶膜;124第1取向区域;126第2取向区域;128第1液晶区域;130第2液晶区域;150立体图像显示装置;152光源;154图像输出部;158光学功能膜;164偏振板;166保持基板;168图像生成部;170保持基板;174偏振板;178右眼用图像生成部;180左眼用图像生成部;190偏振光眼镜;192右眼用调制部;194左眼用调制部;248上游侧从动辊;249下游侧从动辊;250流路;251流路;348保持面部;350从动辊;352从动辊;354环状带;356流路;448膜送风部;449膜送风部;548掩模冷却部;549掩模冷却部;648保持风冷部;649保持风冷部;748保持液冷部;749保持液冷部。
具体实施方式
以下,通过发明的实施方式对本发明进行说明,但以下实施方式并未对权利要求书所涉及的发明进行限定。此外,在实施方式中所说明的所有特征组合并不限于本发明的解决方案所必须的。
图1是利用本实施方式所制造的光学膜100的整体俯视图。光学膜100由利用本实施形态的光学膜制造方法制造。光学膜100设置于立体图像显示装置的图像生成部的图像输出侧,输出右眼用图像及左眼用图像。
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