[发明专利]一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法

权利要求书

1.一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法，激光减反膜主要包括基底、高折射率膜层即H层、低折射率膜层即L层，其特征在于:包括以下步骤：

1)利用椭圆偏振仪测量H层和L层在激光波长点的折射率；

测量H层和L层在激光波长点的折射率非均匀性δH和δL；

测量H层和L层在近基底端和远基底端的折射率；

2)假定膜层材料折射率均匀，在此理想设定情况下计算H层和L层的物理厚度，分别记为dH和dL；

3)设定H层的物理厚度空间为[(1-︱δH︱)dH，(1+︱δH︱)dH]，

L层的物理厚度空间分别为[(1-︱δL︱)dL，(1+︱δL︱)dL]；

4)将H层和L层进行均匀化分层：

将H层分为N层，N是与dH/2nm相邻的整数，N≥dH/2nm；

将L层分为M层，M是与dH/2nm相邻的整数，M≥dL/2nm；

5)将H层和L层折射率按照设定的层数离散化：

根据步骤1）中测量的H层和L层在近基底端和远基底端的折射率和步骤4）中确定的层数，均匀化离散每层的折射率；

6)在H层和L层物理厚度空间矩阵化，根据沉积设备的控制精度确定步长；逐点计算物理厚度空间内的剩余反射率；

7)在物理厚度矩阵空间内搜索确定剩余反射率最低点，其对应的H层和L层的物理厚度值即为设计的结果。

2.如权利要求1所述的一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法，其特征在于：步骤6)中，在H层和L层物理厚度空间矩阵化的步长为0.1nm。

3.如权利要求1所述的一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法，其特征在于：H层和L层的薄膜材料分别为Ta₂O₅和SiO₂，激光减反膜的设计波长为632.8nm，入射角度为0°。