[发明专利]聚丙烯型光学保护膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种保护膜，尤其是一种通过流延工艺生产的聚丙烯型光学保护膜。

背景技术

    保护膜是一种用来保护易损害表面的薄膜。其目的是防止受保护基材表面在运送、装配、或加工过程当中受到损害或污染，保护膜会一直贴在受保护基材表面，直到产品送达使用者时才被撕下抛弃。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上，制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合，以改变光波之传递特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。如增光片、偏光片等薄膜就是叫常用的光学薄膜。

    光学薄膜在使用的过程中通常为了保护薄膜表面不被损伤，就需要使用专用的光学保护膜进行表面保护。光学保护膜需要具有如下的特性：适当而稳定的粘性； 容易撕下，且撕下后无残胶、不留影； 长时间贴合后，不可有气泡浮起或翘边；薄膜无杂质和晶点。

目前光学保护膜的生产方式主要有上胶型保护膜和一次挤出成型的自粘型保护膜。上胶型保护膜通常先用聚酯或聚烯烃制作成基膜，再在基膜上涂上一层或多层压敏热熔胶，组成热熔胶的高分子材料主要有聚异丁烯、聚丙烯酸及其酯类、乙烯醋酸乙烯共聚物、聚氨酯、弹性体等，这类材料均具有较低的玻璃化转变温度和较低的分子量，因此在撕掉保护膜后粘结树脂往往容易转移并残留在被保护体的表面上。且上胶型保护膜生产时还需要使用溶剂型胶黏剂，生产过程包括制膜、上胶、干燥，加工程序复杂，生产成本高，溶剂对环境的污染较大。且由于胶黏剂与保护膜基膜的内聚力随着温度的变化和时间的推移，会发生变化，从而导致粘附性能下降，当保护膜从受保护器件上撕开时极易产生残胶。

自粘型保护膜目前生产较多的是聚乙烯型光学保护膜。而聚乙烯型保护膜一般是通过多层共挤吹塑工艺生产的，聚乙烯耐温性能差，在生产过程中易裂解而产生晶点和炭化点，使保护膜与被保护器件的表面接触就会不平整，容易在接触处产生气泡或翘边，且保护膜薄膜的晶点和碳化点容易将光学膜表面压伤。此外，聚乙烯型保护膜的粘性强度会随着环境温度高低的变化而变化，温度越高粘性越强，越难以撕开，严重的根本无法撕开，影响了被保护产品的正常使用；而温度越低，粘性越差，低温时会出现部分或整体脱落的现象，达不到保护产品的目的。稳定性差已经成为阻碍聚乙烯自粘保护膜发展的重要因素。

发明内容

本发明的目的是提供一种聚丙烯型光学保护膜，以解决现有聚乙烯自粘保护膜稳定性差、耐温性能差、加工程序复杂，生产成本高等技术问题。

本发明主要是通过下述技术方案得以解决上述技术问题的：一种聚丙烯型光学保护膜，该保护膜由爽滑层、芯层和自粘层组成，总厚度为20-70微米，所述爽滑层厚度占总厚度比为10%-20%，芯层厚度占总厚度比为40%-60%，自粘层厚度占总厚度比为10%-30%；

所述爽滑层由下列重量比组分制成：丙烯嵌段共聚物100份和高纯芥酸酰胺爽滑剂0.1-0.25份组成；

所述芯层由下列重量比组分制成：丙烯嵌段共聚物100份、茂金属催化的丙烯基-α-烯烃共弹性体10-50份以及0.1-0.3份的抗静电剂组成；

所述自粘层由下列重量比组分制成：茂金属催化聚丙烯100份、茂金属催化的丙烯基-α-烯烃共弹性体50-150份、乙烯醋酸乙烯酯共聚物10-50份。

作为优选，所述丙烯嵌段共聚物为丙烯二元嵌段共聚物或丙烯三元嵌段共聚物。

作为优选，所述二元嵌段共聚或三元嵌段共聚物中，所述乙烯含量为5%-15%。

作为优选，所述茂金属催化的丙烯基-α-烯烃共弹性体为α-烯烃为C4-C8的烯烃与丙烯共聚物。

作为优选，所述α-烯烃为C4-C8的烯烃与丙烯共聚物中，共聚单体含量为18-22%。

上述三层原料分别在密闭的容器中进行拌料，再经过专用的真空吸料装置分别输送入三台挤出机料仓中进行熔融，其中每台挤出机与模头的连接段均有一滤网过滤器对熔体进行过滤，避免未熔融物和晶点进入模头。三台挤出机的熔体在模头连接器中进行组合，再经模头挤出、流延冷却、再加热结晶定型、在线分切和收卷包装，得到最终保护膜产品。