[发明专利]一种金属微小柱状体阵列的固定方法无效
| 申请号： | 201310230157.9 | 申请日： | 2013-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN103302446A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 明平美;李建中;刘志超;吕文星;张新民;商静瑜;郝巧玲;王俊涛;包晓慧;李慧娟 | 申请（专利权）人： | 河南理工大学 |
| 主分类号： | B23P11/00 | 分类号： | B23P11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 454003 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 微小 柱状 阵列 固定 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：包括如下步骤：
(a) 把数根金属微小柱状体阵列（1）规则地插在石蜡层（2）上，使金属微小柱状体（3）根部（4）外露在石蜡层（2）表面；
(b) 在外露有金属微小柱状体（3）根部（4）的石蜡层表面（5）镀覆一定厚度的金属层（6）；
(c) 融化去除石蜡层（2）。
2.根据权利1所要求的一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：所述的金属微小柱状体（3）的最大横截面外接圆直径小于1mm。
3.根据权利1所要求的一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：所述的石蜡层（2）的厚度大于1mm。
4.根据权利1所要求的一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：所述的金属微小柱状体（3）根部（4）外露在石蜡层（2）表面的长度大于10μm。
5.根据权利1所要求的一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：所述的金属层（6）的镀覆工艺为化学镀、电镀等工艺实施温度低于45℃的低温处理工艺。
6.根据权利1所要求的一种金属微小柱状体阵列的固定方法，其特征在于：所述的金属层（6）厚度要大于等于10μm。
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