[发明专利]一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置有效
申请号: | 201310233117.X | 申请日: | 2013-06-13 |
公开(公告)号: | CN103334092A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 罗才旺;魏唯;陈特超;罗宏洋 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强;李发军 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 金属 有机化学 沉积 反应器 管道 冷却 气体 分布 装置 | ||
1.一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,包括位于反应腔室(103)上方的气体喷射板(210),该气体喷射板(210)上方设有气体连接板(216),在所述气体喷射板(210)与气体连接板(216)之间设有至少三个层叠的气体分布板(212、214、215);其特征在于,在所述气体喷射板(210)与最下层的气体分布板(212)之间、相邻两层气体分布板之间均设置有冷却液管道(211、213、217、218);所述气体连接板(216)上设置有若干气体接口(202、203、206)、测量仪安装窗口(205)以及与所述冷却液管道(211、213、217、218)连通的冷却液进出口(201、207),且所述气体喷射板(210)、气体分布板(212、214、215)、气体连接板(216)叠加在一起后形成若干相互独立的气体通道(303c、307c、305c),该气体通道包括第一前体气体通道(307)、第二前体气体通道(303)和载气通道(305);所述气体喷射板(210)的上侧面、气体连接板(216)的下侧面以及各气体分布板(212、214、215)的上、下侧面均设有用于容纳冷却液管道(211、213、217、218)的两个凹槽(308a,301b、302b),两个凹槽(308a)之间通过狭缝(305e)隔开,在所述凹槽(308a,301b、302b)内冷却液管道折弯水平布置;所述测量仪安装窗口(205)内设有与气体接口连通的狭缝(305e);所述气体连接板(216)和各气体分布板(212、214、215)上均设有冷却液管道安装通孔。
2.根据权利要求1所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述气体分布板(212、214、215)有三块。
3.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述凹槽(308a,301b、302b)的横截面为半圆形,半圆形的弦与所述狭缝(305e)共线。
4.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述冷却液管道(211、213、217、218)的数量为1-16根。
5.根据权利要求4所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,当冷却液管道为多根时,多根冷却液管道(211、213、217、218)为相互独立的冷却通道。
6.根据权利要求1或5所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述冷却液管道与气体喷射板(210)、气体连接板(216)、气体分布板(212、214、215)之间的连接采用真空扩散焊接连接或真空熔焊连接或与所述凹槽定位连接。
7.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述凹槽(308a,301b、302b)的横截面为半椭圆形或多边形。
8.根据权利要求1或2所述的用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置,其特征在于,所述测量仪安装窗口(205)安装有晶片翘曲度测量探头。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的