[发明专利]一种具有逆流流道的阀体无效

专利信息
申请号: 201310233437.5 申请日: 2013-06-13
公开(公告)号: CN104235429A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 马旭光;薛永 申请(专利权)人: 南京福碧源环境技术有限公司
主分类号: F16K11/10 分类号: F16K11/10;F16K27/04
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 贾郡
地址: 211111 江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 逆流 阀体
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种阀体,具体涉及一种具有逆流流道的阀体。

背景技术

目前在工业和家庭软化水处理系统中,一般分为工作和再生,工作状态是将水通过处理介质后生产出软化水,再生是将缺乏活性的处理介质加注盐溶液,使处理介质重新回复活性,为了能够切换工作和再生状态,就需要一个控制阀。

现在市场上的控制阀再生一般采用顺流,顺流就是置换液从处理介质顶部向下开始置换,即从阀体的侧流道进入,从中心流道排出,顺流对盐的消耗量比较大,运行成本较高。

发明内容

发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种具有逆流流道的阀体,降低了再生时对盐的消耗量,节省了成本。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:

一种具有逆流流道的阀体,包括阀体,所述阀体的一个端口设有盖板,另一个端口为进水流道,所述盖板和阀体形成一个圆柱形内腔,所述内腔中设有活塞,所述活塞为管状结构,所述活塞侧壁中心处设有环形凹槽,所述活塞和阀体侧壁之间还设有密封垫,所述活塞与密封垫匹配,所述阀体侧壁上还设有中心流道、侧流道、出水流道、过滤流道、吸盐流道和排污流道,所述吸盐流道和过滤流道通过外部管道连通,所述吸盐流道和过滤流道中均设有控制流通的闸阀。

所述活塞在内腔中往复运动,在正常产水时,所述吸盐流道和过滤流道中的闸阀关闭,所述活塞、阀体侧壁和密封垫配合堵住排污流道的端口,所述环形凹槽与阀体侧壁配合构成一条流道,所述流道连通中心流道与出水流道。

在再生置换时,所述出水流道关闭,所述吸盐流道和过滤流道中的闸阀开通,所述活塞、阀体侧壁和密封垫配合构成一条流道,所述流道连通中心流道和吸盐流道,所述环形凹槽与阀体侧壁配合构成另一条流道,所述流道连通侧流道与排污流道。

所述密封垫包括第一密封垫、第二密封垫、第三密封垫、第四密封垫、第五密封垫和第六密封垫。

所述盖板上设有通孔,所述通孔与活塞的活塞杆匹配。

以上所述的一种具有逆流流道的阀体通过活塞在阀体内腔中来回运动,使活塞、活塞中的环形凹槽、阀体侧壁和密封垫之间形成不同的流道。

有益效果:本发明在再生置换时,通过活塞、活塞中的环形凹槽、阀体侧壁和密封垫之间形成逆流流道,降低了对盐的消耗量,节省了成本。

附图说明

图1为本发明在正常产水时的结构示意图。

图2为本发明在再生置换时的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作更进一步的说明。

如图1所示:一种具有逆流流道的阀体,包括阀体1,所述阀体1的一个端口设有盖板,另一个端口为进水流道2,所述盖板和阀体1形成一个圆柱形内腔,所述内腔中设有活塞,所述活塞为管状结构,所述活塞侧壁中心处设有环形凹槽9,所述活塞和阀体1侧壁之间还设有密封垫,所述活塞与密封垫匹配,所述密封垫包括第一密封垫101、第二密封垫102、第三密封垫103、第四密封垫104、第五密封垫105和第六密封垫106,所述阀体1侧壁上还设有中心流道3、侧流道4、出水流道5、过滤流道6、吸盐流道7和排污流道8,所述吸盐流道7和过滤流道6通过外部管道连通,所述吸盐流道7和过滤流道6中均设有控制流通的闸阀。所述盖板上设有通孔,所述通孔与活塞的活塞杆匹配。

所述活塞在内腔中往复运动,在正常产水时,所述吸盐流道7和过滤流道6中的闸阀关闭,所述活塞、阀体1侧壁、第三密封垫103和第四密封垫104配合堵住排污流道8的端口,所述环形凹槽9与阀体1侧壁配合构成一条流道,所述流道连通中心流道3与出水流道5。水从进水流道2进入,流入侧流道4进入处理槽,经处理后的软化水从中心流道3向上,从出水流道5排出。

如图2所示:为本发明在再生置换时的结构示意图。所述出水流道6关闭,所述吸盐流道5和过滤流道7中的闸阀开通,所述活塞、阀体1侧壁、第二密封垫102和第三密封垫103配合构成一条流道,所述流道连通中心流道3和吸盐流道7,所述环形凹槽9与阀体1侧壁配合构成另一条流道,所述流道连通侧流道4与排污流道8。水从进水流道2进入,通过管状活塞,流入过滤流道6,所述过滤流道6与外接的置换流道连通,水和置换流道中的盐溶液混合后进入吸盐流道7,然后通过中心流道3进入处理槽,和处理介质置换后从侧流道4经排污流道8排出。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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