[发明专利]绘制装置、数据处理方法和物品制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及绘制装置、数据处理方法和物品制造方法。

背景技术

如下这样的绘制装置是可用的，该绘制装置在扫描诸如带电粒子束（例如，电子束或离子束）或者光束的射束的同时在基板上执行绘制。在绘制装置中，常用的是将要被绘制的区域分割成具有重叠区域的多个局部区域，在该重叠区域中局部区域相互重叠，并且利用射束在多个局部区域中绘制图案。这样的方案被称为拼接方案（stitching scheme）。重叠区域中的绘制是通过共享该重叠区域的两个或更多个局部区域来实现的。因此，当两个局部区域共享重叠区域时，以各局部区域中的绘制时的剩余区域中的剂量的一半在该重叠区域中绘制图案。

作为控制剂量的方法，时间调制型方法和空间调制型方法是可用的。时间调制方法被用于控制利用射束照射基板的时间，并且也被称为PWM（脉宽调制）。空间调制方法被用于使用多个像素形成图案，并且在保持利用射束照射各像素的时间恒定的情况下控制要被射束照射的像素的面积密度（area density）。″Proc.of SPIE Vol.797079701AProc.(2011)″中描述了空间调制方法。

将参照图8至12描述通过空间调制方法生成用于控制绘制的二值图案数据的示例。附图标记801指示通过在绘制装置中定义的像素坐标系上布置设计图案而获得的设计图案数据的示意性结构。在此示例中，设计图案数据801表示的设计图案为使用0.25nm网格设计的20nm×20nm方形图案，并且像素坐标被以2.5nm的像素间距给出。由于设计网格比像素间距窄，因此设计图案不能被忠实地显示在像素坐标系上。

出于此原因，计算各像素中的设计图案的面积密度，并且基于所获得的面积密度确定各像素中的剂量以生成多层级图案数据。附图标记802指示由此生成的多层级图案数据的示意性结构。应指出，绘制装置中的每一像素的射束的剂量（固定值）被假定为“10”，而设计图案数据810中的每一像素的剂量（固定值）被假定为“8”。由于绘制装置中的每一像素的剂量（固定值）为“10”，因此使用误差扩散方法将多层级图案数据变换为二值图案数据，以控制在其中射束为开（ON）的像素的密度下的设计图案的剂量（dose）。作为误差扩散方法，例如可采用Floyd&Steinberg（弗洛伊德&斯坦伯格）误差扩散方法。

更具体而言，在依次注意多层级图案数据802的多个像素时将所关注的像素的值进行二值化的同时，根据图12中所示的误差扩散矩阵（误差扩散程序）将二值化误差散布到要被处理的外围像素。所关注的像素的选择顺序（要进行变换的方向）可例如通过首先选择左上部像素、然后对随后的像素进行光栅扫描来确定。如果所关注的像素的值小于5，则此像素的二值化结果被设定为“0”，否则，此像素的二值化结果被设定为“10”。通过这样的处理，生成二值图案数据。附图标记803指示由此生成的二值图案数据的示意性结构。

附图标记804指示在根据二值图案数据803控制射束的同时绘制的绘制图像（在抗蚀剂上形成的潜像）的示意性结构。应指出，射束大小被设定为充分大于大小为2.5nm×2.5nm的像素，以使根据像素密度形成的图案平滑。

对于如上所述的重叠区域（双重绘制区域），生成用于双重绘制的多层级图案数据805。用于双重绘制的多层级图案数据805中的像素的值为用于一次绘制的多层级图案数据802中的像素的值的一半。用于双重绘制的多层级图案数据805根据上述方法被二值化以生成用于双重绘制的二值图案数据806。在用于双重绘制的二值图案数据806中的具有值“10”的像素（开通像素）的密度小于用于一次绘制的二值图案数据803中的该密度。根据用于双重绘制的二值图案数据806在重叠区域中将图案绘制两次。附图标记807指示在根据二值图案数据806控制射束的同时绘制的绘制图像的示意性结构。

通过双重绘制形成的绘制图像807的对于设计图案数据801的忠实度低于通过一次绘制形成的绘制图像804的忠实度。通过此布置，在空间调制方法中，当提供重叠区域以执行双重绘制时，实际绘制图像对于设计图案的可再现性劣化。

发明内容

本发明例如提供了一种在对于设计图案的绘制的忠实度方面有利的技术。