[发明专利]一种N型晶体硅双面光伏电池的制备方法有效
申请号: | 201310236804.7 | 申请日: | 2013-06-14 |
公开(公告)号: | CN103337558A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 高艳涛;扬灼坚;孙海平;邢国强 | 申请(专利权)人: | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 刘燕娇 |
地址: | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体 双面 电池 制备 方法 | ||
1.一种N型晶体硅双面光伏电池的制备方法,包括选取N型的硅片,并对该N型硅片进行化学清洗和制绒得到电池衬底,其特征在于,还包括以下步骤:
1)在所述电池衬底的受光面制作PN结;
2)在电池衬底的背光面形成重掺杂区;
3)在电池衬底受光面上沉积钝化膜和减反射膜;
4)在电池衬底的背光面上沉积减反射膜;
5)制作电池的正负极。
2.根据权利要求1所述的N型晶体硅双面光伏电池的制备方法,其特征在于,所述第1)步中使用离子注入工艺在受光面注入硼形成PN结,离子束能量在6-20KeV,离子注入量为1*1014~9*1015cm-2,离子注入后进行退火形成方块电阻为40~120Ω/□的区域。
3.根据权利要求1所述的N型晶体硅双面光伏电池的制备方法,其特征在于,所述1)步中对电池衬底的受光面使用扩散工艺在800~1000℃的温度范围内进行硼扩散,硼扩散区域的方块电阻为40~120Ω/□,然后去除背结、边结和硼硅玻璃。
4.根据权利要求2或3所述的N型晶体硅双面光伏电池的制备方法,其特征在于,所述第3)步中使用离子注入工艺在N型电池衬底的背光面注入磷源,离子束能量在8-15KeV,离子注入量为1*1015~7*1015cm-2,然后退火形成背场。
5.根据权利要求2所述的N型晶体硅双面光伏电池的制备方法,其特征在于,所述第3)步中在电池衬底的背光面进行磷扩散,然后去除背结、边结和硼硅玻璃。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的