[发明专利]蒸发镀膜设备及其抽气工艺

权利要求书

1. 一种蒸发镀膜设备，其特征在于，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室分别连接有电弧钛泵、牵引分子泵和粗抽泵，所述牵引分子泵与一前级泵连接，所述真空镀膜室和牵引分子泵之间设有一第一真空阀，所述牵引分子泵和前级泵之间设有一第二真空阀，所述真空镀膜室和粗抽泵之间设有一第三真空阀，所述真空镀膜室和电弧钛泵之间设有一第四真空阀；

所述电弧钛泵包括钛靶以及与所述钛靶连接的阴极弧源基座，所述钛靶设于所述真空镀膜室之内，所述阴极弧源基座设于所述真空镀膜室之外，所述阴极弧源基座通过一绝缘垫与所述真空镀膜室固定连接，所述阴极弧源基座上设有一永久磁铁，所述阴极弧源基座内设有一冷却水槽，所述阴极弧源基座上开设有一与所述冷却水槽连通的进水口和一与所述冷却水槽连通的出水口，所述钛靶和/或阴极弧源基座上开设有至少一与所述真空镀膜室连通的气孔。

2. 根据权利要求1所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述钛靶和阴极弧源基座连接处的残留空间还设有一弹性导热层。

3. 根据权利要求2所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述弹性导热层由金属导热材料制成。

4. 根据权利要求2所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述弹性导热层由非金属导热材料制成。

5. 根据权利要求1所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述钛靶和/或阴极弧源基座上的气孔的内径为2~3mm，所述气孔的数量为1~3个。

6. 一种如权利要求1~5中任一项所述的蒸发镀膜设备的抽气工艺，其特征在于包括如下步骤：

（1）粗抽阶段：由粗抽泵抽气，将真空镀膜室压强从大气压抽至50~200Pa； 

（2）中真空阶段：由牵引分子泵+前级泵抽气，将真空镀膜室压强由50~200 Pa抽至0.1Pa；

（3）精抽阶段：由电弧钛泵+牵引分子泵+前级泵抽气，真空镀膜室压强由0.1 Pa抽至10^-2~10^-3Pa，其中，高真空的活性气体由电弧钛泵抽出，高真空的惰性气体以及中真空气体由牵引分子泵和前级泵抽出；

（4）镀膜阶段：真空镀膜室达到蒸发镀膜所需的真空度后，开始预熔、镀膜，由电弧钛泵+牵引分子泵+前级泵继续抽气；

（5）结束阶段：镀膜完成后，关闭第三真空阀和第四真空阀，停止电弧钛泵，打开第一放气阀，真空镀膜室暴露于大气，完成蒸发镀膜工艺。

7. 根据权利要求6所述的蒸发镀膜设备的抽气工艺，其特征在于，所述蒸发镀膜设备还增设有一深冷水汽泵，所述深冷水汽泵与所述真空镀膜室连接，在中真空阶段、精抽阶段和镀膜阶段协助抽出水蒸汽。

8. 根据权利要求6或7所述的蒸发镀膜设备的抽气工艺，其特征在于，取消所述真空镀膜室和电弧钛泵之间的第四真空阀，所述真空镀膜室与电弧钛泵直接连通。