[发明专利]CF玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域。更具体地讲，涉及一种CF玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置。

背景技术

在大尺寸面板的生产中，多采用狭缝式（Slit）或非旋转式（Spinless）涂布机来进行光阻的涂布。随着玻璃基板尺寸的增大，涂布机的喷嘴（Nozzle）也随之加长，在这种情况下，在整块玻璃基板上涂布的光阻的膜厚均一性成为日益突出的问题。该问题在涂布PS（Photo Spacer，感光间隙子）光阻时表现得尤其明显，其原因是：1、PS光阻的膜厚决定TFT（Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管）玻璃基板与CF（Color Filter，彩色滤光片）玻璃基板对组后的液晶盒厚度（Cell Gap），Cell Gap是液晶显示装置中特别重要的参数，这就要求PS光阻的膜厚有很高的精度；2、在进行PS光阻涂布时，玻璃基板的一表面上已经形成有黑色矩阵（Black Matrix，简称BM），RGB三原色子像素，ITO（Indium TinOxides，氧化铟锡）导电薄膜等，而由于在设计过程中要考虑色域NTSC（National Television Systems Committee）值，RGB三原色子像素的膜厚的值各不相同，那么PS光阻并不是在一个平整的玻璃基板的表面上进行涂布，使得PS光阻涂布后形成的湿膜的流动变得难以控制。在不同尺寸面板的设计上，RGB三原色子像素的膜厚和排版不尽相同，导致利用涂布机来控制涂布后的PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板变得困难。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种CF玻璃基板包括上表面和下表面，所述上表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体，所述下表面上设有多个像素。

此外，所述像素包括三个子像素，所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。

此外，所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。

本发明的另一目的还在于提供一种CF玻璃基板的制作方法，包括：在所述玻璃基板的上表面上形成黑色矩阵；在所述玻璃基板的上表面上形成导电薄膜；在所述玻璃基板的上表面上形成支撑体；在所述玻璃基板的下表面上形成多个像素。

此外，所述像素包括三个子像素，所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。

此外，所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。

本发明的另一目的还在于提供一种液晶显示装置，包括CF玻璃基板以及与所述CF玻璃基板相对平行设置的TFT玻璃基板，所述CF玻璃基板与所述TFT玻璃基板相对的表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体，所述CF玻璃基板与所述TFT玻璃基板相背的表面上设有多个像素。

此外，所述像素包括三个子像素，所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。

此外，所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。

本发明的CF玻璃基板是将三原色（即红色、绿色和蓝色）子像素形成在玻璃基板的下表面，并未将其形成在具有黑色矩阵、导电薄膜和支撑体的上表面，避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现，同时消除了PS光阻膜厚的变异而对测量结果产生的不良影响，从而改善PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚的均一性。而且在不同尺寸面板的设计上，由于涂布PS光阻的表面上未形成三原色子像素，可较易地利用涂布机来控制涂布后的PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板。

附图说明

图1是根据本发明的实施例的CF玻璃基板的示意图。

图2是具有图1所示CF玻璃基板的液晶显示装置的示意图。

具体实施方式

现在对本发明的实施例进行详细的描述，其示例表示在附图中，其中，相同的标号始终表示相同部件。下面通过参照附图对实施例进行描述以解释本发明。在附图中，为了清晰起见，可以夸大层和区域的厚度。在下面的描述中，为了避免公知结构和/或功能的不必要的详细描述所导致的本发明构思的混淆，可省略公知结构和/或功能的不必要的详细描述。

图1是根据本发明的实施例的CF玻璃基板的示意图。