[发明专利]薄膜沉积装置以及使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置，包括：

沉积源，该沉积源经由喷射孔朝向基板喷射沉积蒸气；和

角度限制板，该角度限制板被布置为邻近所述喷射孔，以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的角度，

其中所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板，

其中所述能移动限制板包括能够独立滑动的多个能移动限制板。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中:

所述固定限制板和所述能移动限制板均被布置为邻近所述喷射孔，以便在设定范围内限制从所述喷射孔喷射所述沉积蒸气的所述角度，并且

所述能移动限制板被布置为能够相对于所述固定限制板滑动。

3.如权利要求2所述的薄膜沉积装置，其中所述能移动限制板被滑动地布置在所述固定限制板的内壁上。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中所述多个能移动限制板和所述固定限制板被布置为，使由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大。

5.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，进一步包括驱动所述能移动限制板的致动器。

6.一种沉积薄膜的方法，该方法包括：

提供角度限制板，该角度限制板被布置在沉积源的喷射孔附近，以便将喷射沉积蒸气的角度限制到设定范围内的角度，所述角度限制板包括相对于所述喷射孔被固定的固定限制板和相对于所述喷射孔能移动的能移动限制板；

以通过使用所述能移动限制板限制的喷射角执行第一沉积；

重新定位所述能移动限制板，以便从用于限制所述喷射角的位置移出；以及

以通过使用所述固定限制板限制的所述喷射角执行第二沉积，

其中所述能移动限制板包括能够独立滑动的多个能移动限制板。

7.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法，其中，通过沿所述固定限制板的内壁滑动所述能移动限制板，所述能移动限制板被移动。

8.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法，其中：

所述多个能移动限制板和所述固定限制板被布置为，使由所述多个能移动限制板和所述固定限制板形成的开口的尺寸根据所设定的喷射角向外增大，并且

自最内部的能移动限制板开始，通过依次使用所述最内部的能移动限制板至所述固定限制板执行所述喷射角的限制，所述固定限制板位于最外部。

9.如权利要求6所述的沉积薄膜的方法，其中通过使用致动器移动所述能移动限制板。