[发明专利]一种双包层光纤

权利要求书

1.一种双包层光纤，包括纤芯和包层，其特征在于所述的纤芯为离子掺杂的二氧化硅基玻璃芯层，所述的包层包括内包层和外包层，所述的内包层为具有两个对称于纤芯分布的低折射率掺杂应力区的全固二氧化硅基玻璃层，所述的外包层是由空气孔排列而成的环形二氧化硅基玻璃层，外包层外设置支撑层，所述的支撑层为全固二氧化硅基玻璃层，光纤最外层为涂覆层。

2.根据权利要求1所述的双包层光纤，其特征在于所述的外包层空气孔排列成圆环、D字形或正八边形，均匀密布在内包层外围。

3.根据权利要求1或2所述的双包层光纤，其特征在于所述的涂覆层为内、外两层，包括内涂覆层和外涂覆层。

4.根据权利要求1或2所述的双包层光纤，其特征在于所述纤芯的掺杂剂组份是稀土离子、铝离子、锗或磷，当采用稀土离子掺杂时，至少共掺Al、P、F、B、Ge中的一种，纤芯掺杂抬高纤芯数值孔径至0.03～0.33，纤芯直径d为10～40 mm。

5.根据权利要求1或2所述的双包层光纤，其特征在于所述的内包层中两个对称于纤芯分布的低折射率掺杂应力区的形状为圆形、梯形、扇形或椭圆形，应力区的折射率低于内包层的折射率。

6.根据权利要求1或2所述的双包层光纤，其特征在于所述外包层的占空比为6～30％。

7.根据权利要求6所述的双包层光纤，其特征在于所述外包层的占空比为16～25％。

8.根据权利要求3所述的双包层光纤，其特征在于所述的外涂覆层的折射率高于内包层折射率。

9.根据权利要求3所述的双包层光纤，其特征在于所述的外涂覆层折射率高于光纤芯层折射率。

10.根据权利要求1或2所述的双包层光纤，其特征在于所述的光纤具有大模场面积，模场面积为80~1300mm²。