[发明专利]等离子体源有效
| 申请号： | 201310251929.7 | 申请日： | 2013-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN103779155A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 井内裕;谷井正博 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 | ||
1.一种等离子体源，其特征在于，把气体导入具有冷却机构的等离子体生成容器的内部，通过把所述气体电离生成等离子体，
所述等离子体源包括：
防着板，配置在所述等离子体生成容器的内侧；以及
多个永磁体，配置在所述等离子体生成容器的外侧，用于把等离子体关起来，
并且在所述等离子体生成容器的内侧，在隔着所述等离子体生成容器的壁面与所述永磁体相对的位置，设置有与所述等离子体生成容器的内壁面抵接的磁体。
2.根据权利要求1所述的等离子体源，其特征在于，
所述防着板支承在所述磁体上。
3.根据权利要求1或2所述的等离子体源，其特征在于，
所述防着板支承在所述磁体的位于所述等离子体生成容器的最中央侧的位置。
4.根据权利要求3所述的等离子体源，其特征在于，
在各个所述磁体排列的方向上，所述防着板的尺寸比所述磁体的尺寸长。
5.根据权利要求1或2所述的等离子体源，其特征在于，
在各个所述磁体之间，所述防着板沿着所述等离子体生成容器的内壁面支承在所述磁体上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的等离子体源，其特征在于，
所述等离子体生成容器具有连接容器内外的引出口，
所述气体是含硼气体，
所述等离子体源还包括放电抑制构件，所述放电抑制构件支承在所述磁体或所述防着板上，并且设置在比所述磁体靠向所述等离子体生成容器的中央侧。
7.根据权利要求6所述的等离子体源，其特征在于，
所述防着板配置在所述放电抑制构件和所述磁体之间。
8.根据权利要求6或7所述的等离子体源，其特征在于，
所述放电抑制构件由非磁体或弱磁体构成。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的等离子体源，其特征在于，
所述放电抑制构件的表面实施了喷砂处理。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的等离子体源，其特征在于，
所述防着板由陶瓷材料制成。
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