[发明专利]一种基于双活塞阀体的水处理装置

权利要求书

1.一种基于双活塞阀体的水处理装置，其特征在于：包括上阀体（1）、下阀体（2）和处理槽（3），所述上阀体（1）固定在下阀体（2）上，所述下阀体（2）固定在处理槽（3）上，所述上阀体（1）和下阀体（2）的内腔中均设有活塞和密封垫，所述活塞和密封垫匹配，所述上阀体（1）的侧壁上设有过滤流道（8）、吸盐流道（7）、再生流道（9）、排污流道（13）、第一连通流道（10）和第二连通流道（11），所述再生流道（9）、第一连通流道（10）和第二连通流道（11）与下阀体（2）的内腔相通，所述下阀体（2）的侧壁上还设有出水口（12）、进水口（4）、侧流道（5）和中心流道（6），所述侧流道（5）和中心流道（6）与处理槽（3）相通，所述中心流道（6）延伸至处理槽（3）底部。

2.根据权利要求1所述的一种基于双活塞阀体的水处理装置，其特征在于：所述密封垫间隔设置，所述上阀体（1）的密封垫包括第一上密封垫（101）、第二上密封垫（102）、第三上密封垫（103）、第四上密封垫（104）、第五上密封垫（105）和第六上密封垫（106），所述下阀体（2）的密封垫包括第一下密封垫（201）、第二下密封垫（202）、第三下密封垫（203）和第四下密封垫（204）。

3.根据权利要求2所述的一种基于双活塞阀体的水处理装置，其特征在于：所述排污流道（13）位于第三上密封垫（103）和第四上密封垫（104）之间，所述过滤流道（8）位于第四上密封垫（104）和第五上密封垫（105）之间，所述吸盐流道（7）位于第五上密封垫（105）和第六上密封垫（106）之间，所述第一连通流道（10）在上阀体（1）内的端口位于第四上密封垫（104）和第五上密封垫（105）之间，在下阀体（2）内的端口位于第三下密封垫（203）和第四下密封垫（204）之间，所述第二连通流道（11）在上阀体（1）内的端口位于第二上密封垫（102）和第三上密封垫（103）之间，在下阀体（2）内的端口位于第二下密封垫（202）和第三下密封垫（203）之间，所述出水口（12）位于第一下密封垫（201）和第二下密封垫（202）之间，所述中心流道（6）位于第二下密封垫（202）和第三下密封垫（203）之间，所述侧流道（5）位于第三下密封垫（203）和第四下密封垫（204）之间，所述进水口（4）为下阀体（2）内腔的端口，所述再生流道（9）在上阀体（1）内的端口为上阀体（1）内腔的端口，在下阀体（2）的端口位于第四下密封垫（204）与进水口（4）之间。

4.根据权利要求1所述的一种基于双活塞阀体的水处理装置，其特征在于：所述活塞均为管状结构，所述活塞外侧壁上设有环形凹台。