[发明专利]一种表面增强拉曼基底及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310255810.7 申请日: 2013-06-25
公开(公告)号: CN103439308A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 李洁慧;纪新明;窦宏雁 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 增强 基底 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种表面增强拉曼基底,其特征在于,包含:基底以及覆盖在所述基底上的金属层;其中,所述基底表面上具有周期性点阵结构排列的孔。

2.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述周期性点阵结构的排列形状为正方形或六边形。

3.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述孔的周期为0.8至1.2微米,占空比为1∶4。

4.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述孔的深度在10至20微米之间。

5.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述基底的材料为硅、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、玻璃、聚酰亚胺PI、光刻胶SU-8;所述金属层的材料为金、银或铝。

6.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,还包含:粘附层;所述粘附层位于所述基底和所述金属层之间。

7.根据权利要求6所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述粘附层的材料为铬或钛。

8.根据权利要求6所述的表面增强拉曼基底,其特征在于,所述粘附层的厚度为5纳米,所述金属层的厚度为50纳米。

9.一种表面增强拉曼基底的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:

提供一基底;

在所述基底表面上打周期性点阵结构排列的孔;

在所述基底上覆盖金属层。

10.根据权利要求9所述的表面增强拉曼基底的制备方法,其特征在于,

在所述基底表面上打周期性点阵结构排列的孔的步骤中,所述周期性点阵结构排列成正方形或六边形。

11.根据权利要求9所述的表面增强拉曼基底的制备方法,其特征在于,在所述基底上覆盖金属层的步骤中,还包含以下子步骤:

在所述基底上覆盖一层粘附层;

在所述粘附层之上覆盖所述金属层。

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