[发明专利]X射线处理装置及X射线处理方法

权利要求书

1.一种X射线处理装置，其特征在于包括：

作业平台（11），载置被处理体（101）；

X射线处理机构（12R、12L），对配置在所述作业平台（11）上的指定处理区域（11a）的所述被处理体（101）照射X射线进行处理；

X射线屏蔽罩（21），配置在所述作业平台（11）上，具有所述被处理体（101）的搬入口（22），且覆盖所述处理区域（11a）；

X射线屏蔽机构（158a～158c），配置在所述X射线屏蔽罩（21）的所述搬入口（22）；及

按压机构（15R、15L），配置在所述被处理体（101）向所述搬入口（22）的搬送路（11b）上，且按压并压扁残存在所述被处理体（101）的边部的毛边部（102）。

2.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述按压机构（15R、15L）与所述毛边部（102）的接触部分形成为曲面形状。

3.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述按压机构（15R、15L）包括摆动支撑部（154），对所述按压机构（15R、15L）可摆动地支撑。

4.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述X射线屏蔽机构（158a～158c）包括包含X射线屏蔽性材料的片材。

5.根据权利要求4所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述片材包括隔开间隔而积层的多片片材（158a～158c）。

6.根据权利要求4所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述片材（158a～158c）的至少下端部切断成短条状。

7.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

该X射线处理装置进而包括X射线屏蔽部件（158a～158c），积层在所述按压机构（15R、15L）上。

8.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述按压机构（15R、15L）进而包括支撑机构（160、161），在所述搬送路（11b）的左右方向上可移动地支撑。

9.根据权利要求1所述的X射线处理装置，其特征在于：

所述按压机构（15R、15L）进而包括移动支撑机构（153），在所述搬送路（11b）的上下方向上可移动地支撑。

10.根据权利要求9所述的X射线处理装置，其特征在于：

该X射线处理装置包括控制机构（17），当将所述被处理体（101）配置在指定位置时，使所述按压机构（15R、15L）下降而接近所述被处理体（101），其后使所述X射线处理机构（12R、12L）照射X射线。

11.一种X射线处理方法，其特征在于包括如下步骤：

通过搬入口（22）将被处理体（101）搬送至照射X射线的处理区域（11a）；

压扁残存在所述被处理体（101）的边部的毛边部（102）；及

在与所述搬入口（22）隔开的位置、且搬送中的所述被处理体（101）的毛边部（102）通过的位置上屏蔽X射线。