[发明专利]一种去除不利OPC修正的图形预处理方法有效
申请号: | 201310264798.6 | 申请日: | 2013-06-27 |
公开(公告)号: | CN103336406A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 何大权;魏芳;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 去除 不利 opc 修正 图形 预处理 方法 | ||
1.一种去除不利OPC修正的图形预处理方法,其应用于基于模型OPC前处理原始版图之后,以及基于模型OPC修正图形之前,其特征在于,包括如下步骤:
设定一短斜边尺寸选取标准;
对图形片段中存在短斜边的图形进行筛选,选取符合所述短斜边尺寸选取标准的目标图形;
将所述目标图形中的短斜边向其所在的所述目标图形内扩展形成矩形;
在所述矩形外扩展形成最小边界框区域,所述最小边界框区域能够覆盖所述目标图形中的短斜边;
合并所述目标图形和所述最小边界框区域,以去除所述目标图形中的短斜边。
2.根据权利要求1所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述图形片段为原始版图经过基于模型的OPC前处理切割形成的片段。
3.根据权利要求1所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述短斜边尺寸选取标准包括满足短斜边长度小于15nm,短斜边相邻两边长度均大于100nm,以及短斜边和短斜边相邻两边之间的夹角分别为90°<α<180°、90°<β<180°。
4.根据权利要求1所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述矩形的长度等于所述目标图形中的短斜边的长度,所述矩形的宽度小于所述目标图形中的短斜边的长度,以使后续步骤中形成的最小边界框区域不超过所述目标图形所在的区域。
5.根据权利要求1所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述最小边界框区域为包含所述矩形的最小正交矩形框区域。
6.根据权利要求4所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述矩形的四个直角分别与所述最小正交矩形框区域的四条边交接。
7.根据权利要求5所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,所述最小正交矩形框区域的四条边分别与直角坐标系垂直或平行。
8.根据权利要求1所述的去除不利OPC修正的图形预处理方法,其特征在于,合并所述目标图形和所述最小边界框区域形成新目标图形,所述目标图形中的短斜边变为所述新目标图形中的正交直角边,对所述新目标图形进行基于模型OPC修正图形处理。
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