[发明专利]研磨垫成型模具的制造方法、研磨垫成型模具及研磨垫

权利要求书

1.一种研磨垫成型模具的制造方法，其特征在于，该研磨垫成形模具用于制造研磨垫，该研磨垫在进行板状的被研磨材料的平坦加工时使用，该研磨垫在一方的表面侧形成有按设定的间隔分散配置有细微凸部P的微型图案α，该研磨垫成型模具的制造方法具有：

母模制作工序，其在单晶的基板的一方的表面侧，与上述微型图案α的上述细微凸部P的配置相应地设置形成有跟该细微凸部P的底部尺寸相同的孔的保护罩，经由该保护罩对上述基板的一方的表面侧进行蚀刻，以制作在该基板的一方的表面侧形成有微型图案β的母模，该微型图案β与上述微型图案α的上述细微凸部P的配置相应地分散配置有与上述细微凸部P凹凸关系翻转了的细微凹部Q；

正片子模制作工序，其把上述母模的上述微型图案β进行转印，以制作正片子模，该正片子模在与上述细微凹部Q对应的位置形成有微型图案γ，该微型图案γ分散配置有与该细微凹部Q尺寸相同而凹凸关系翻转了的细微凸部R；

底片子模制作工序，其把上述正片子模的上述微型图案γ进行转印，以制作底片子模，该底片子模在与上述细微凸部R对应的位置形成有微型图案δ，该微型图案δ分散配置有与该细微凸部R尺寸相同而凹凸关系翻转了的细微凹部S；和

组装工序，其把上述底片子模的形成有上述微型图案δ的表层侧当作表面，一边把该底片子模的侧部彼此抵接一边把该底片子模排列固定在底座上构成上述研磨垫成型模具。

2.如权利要求1所述的研磨垫成型模具的制造方法，其特征在于，上述底片子模具有把上述正片子模的形成有上述微型图案γ的表面侧当作基底面通过电镀形成的平板状金属部件，固定上述底片子模的上述底座为平板。

3.如权利要求1所述的研磨垫成型模具的制造方法，其特征在于，上述底片子模具有把上述正片子模的形成有上述微型图案γ的表面侧当作径向内侧弯曲成圆弧状，把形成有该微型图案γ的表面侧当作基底面通过电镀形成的圆弧状金属部件，固定上述底片子模的上述底座为具有与上述圆弧状金属部件的径向内侧的曲率相同的曲率的辊。

4.一种研磨垫成型模具，其特征在于：该研磨垫成型模具通过权利要求1所述的研磨垫成型模具的制造方法制造。

5.一种研磨垫，其特征在于，该研磨垫用权利要求4所述的研磨垫成型模具制造。

6.如权利要求5所述的研磨垫，其特征在于，上述基板是从沿［100］方向成长的单晶硅的棒以（100）面作为切出面切出的硅平板，上述保护罩设置在上述硅平板的（100）面上，上述细微凸部P为正四棱锥形细微突起，该正四棱锥形细微突起的底面的1边的长度为0.1～30μm，相邻的该正四棱锥形细微突起间的距离为1～30μm。

7.一种研磨垫成型模具的制造方法，其特征在于，该研磨垫成形模具用于制造研磨垫，该研磨垫在进行板状的被研磨材料的平坦加工时使用，该研磨垫在一方的表面侧形成有按设定的间隔分散配置有细微凸部的微型图案A，该研磨垫成型模具的制造方法具有：

正片模制作工序，其在基板的一方的表面侧，用通过照射促进反应用能量线来引起化学反应的材料形成厚度与上述细微凸部的高度相当的被加工层，使对应于该被加工层内的位置进行照射的上述促进反应用能量线的能量照射量改变，通过化学反应与该细微凸部的配置相应地在该被加工层内生成尺寸与上述细微凸部相同的细微反应凸部，然后，从该被加工层除去非化学反应区域，以制作正片模，该正片模在上述基板的一方的表面侧形成了分散配置有上述细微反应凸部的微型图案B；

底片模制作工序，其把上述正片模的上述微型图案B进行转印，以制作底片模，该底片模在与上述细微反应凸部对应的位置，形成了分散配置有尺寸与该细微反应凸部相同而凹凸关系翻转了的细微凹部的微型图案C；和

组装工序，其把上述底片模的形成有上述微型图案C的面当作表面侧，一边把该底片模的侧部彼此抵接一边把该底片模排列固定在底座上构成上述研磨垫成型模具。

8.如权利要求7所述的研磨垫成型模具的制造方法，其特征在于，上述基板为平板，上述底片模具有把上述正片模的形成有上述微型图案B的面当作基底面通过电镀形成的平板状金属部件，固定上述底片模的上述底座为平板。