[发明专利]被覆件及其制造方法

权利要求书

1.一种被覆件，包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层，其特征在于：该类金刚石膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。

2.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该被覆件还包括形成在基体与类金刚石膜层之间的金属层。

3.如权利要求2所述的被覆件，其特征在于：该金属层表面形成有若干纳米量级的凸起。

4.如权利要求3所述的被覆件，其特征在于：该金属层为钨层。

5.如权利要求1、2或3所述的被覆件，其特征在于：该金属层的厚度为1~2μm。

6.如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该类金刚石膜层的厚度为1~1.5μm。

7.如权利要求1或6所述的被覆件，其特征在于：该类金刚石膜层由碳元素和氢元素构成，其中，碳元素的质量百分含量为30~40%，氢元素的质量百分含量为60~70%。

8.一种被覆件的制造方法，包括以下步骤：

提供基体；

通过真空镀膜的方式，在基体表面形成一金属层；

采用液氮对该金属层进行骤冷处理，使所述金属层表面的晶粒因骤冷而被粗化，于金属层的表面形成若干纳米量级的凸起；

采用真空镀膜的方式，在骤冷处理后的金属层上形成一类金刚石膜层，该类金刚石膜层表面形成若干纳米量级的凸起。

9.如权利要求8所述的被覆件的制造方法，其特征在于：该金属层为钨层，形成该钨层的方法为：提供一真空蒸镀机，该真空蒸镀机包括一蒸镀腔；采用金属钨为蒸发材料，对基体进行蒸镀处理，于基体上形成一钨层。

10.如权利要求9所述的被覆件的制造方法，其特征在于：该液氮骤冷处理的方法为：形成该金属层后，向该蒸镀腔内通入液氮，该蒸镀腔内的真空度为10^-1~1Pa、蒸镀腔内的温度骤降至80~100℃，该基体在该液氮气氛中保持2~3min。