[发明专利]磁共振成像的控制方法及装置有效
申请号: | 201310270450.8 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN104274174B | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 张强;陈波 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201815 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 磁共振 成像 控制 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及磁共振成像技术,尤其涉及一种磁共振成像的控制方法及装置。
背景技术
磁共振(Magnetic Resonance,MR)成像是利用磁共振磁体产生的恒定磁场,通过对射频系统和梯度系统的控制,由射频系统进行激发和接收磁共振信号,利用梯度磁场对样本进行激发选层和空间编码,以获得具备空间位置信息的一种断层成像方法。磁共振设备的主要功能是执行相关的脉冲序列对所述磁共振设备进行控制,进而形成磁共振图像。所述脉冲序列是射频脉冲和梯度脉冲的结合,具体地,是指射频脉冲、梯度场和信号采集时刻等相关参数的设置及其在时序上的排列,在磁共振成像的过程中,通过执行所述脉冲序列,控制磁共振系统各部件共同工作,实现各种磁共振成像等应用。
针对不同的磁共振成像需求,需要开发不同的脉冲序列,常见的脉冲序列有梯度回波序列、自旋回波序列等。
通常执行一个脉冲序列,需要设定所述脉冲序列所含有的多种磁共振参数信息,例如射频参数、梯度场参数、K空间参数、片层定位相关参数、线圈参数、重建参数等。所述磁共振参数是一个复杂的参数集合,数量多且往往参数之间还有一定的依赖关系,现有技术中,磁共振系统中所有的参数都固定设置在一起,如果对于磁共振成像的某个特定脉冲序列需要增加、删除或者修改一个特有参数,需要对应的修改整个磁共振系统的系统文件,以使其适用于其他的磁共振脉冲序列,在磁共振成像过程中,对于所述特定脉冲序列所含有的特有参数的增加、删除或者修改的过程繁琐,方法复杂,而且同时会影响到其他脉冲序列,进而影响整个磁共振系统,降低磁共振系统的处理性能和扩展能力。对于发布新的脉冲序列时,同样需要对整个系统的脉冲序列都进行相应的修改,方法复杂,影响系统性能。
发明内容
本发明解决的问题是在磁共振成像中,磁共振成像控制复杂,且磁共振系统序列扩展能力低的问题。
为解决上述问题,本发明提供一种磁共振成像的控制方法,包括:一种磁共振成像的控制方法,包括:设置第一参数集合,所述第一参数集合包括公共参数的默认信息,所述公共参数适用于磁共振成像的所有脉冲序列;以及设置至少一个第二参数集合,所述第二参数集合包括特有参数的默认信息,所述特有参数适用于磁共振成像的单个脉冲序列;以及基于指定的脉冲序列调用所述第一参数集合和对应参数集合,以生成所述指定的脉冲序列的参数配置;所述对应参数集合包括对应于所述指定的脉冲序列的第二参数集合;根据所述参数配置生成驱动磁共振设备扫描的脉冲序列。
可选的,所述基于指定的脉冲序列调用所述第一参数集合和对应参数集合,以生成所述脉冲序列的参数配置包括:调用所述第一参数集合,将所述第一参数集合中的公共参数的默认信息添加至所述参数配置;调用所述对应于所述指定的脉冲序列的第二参数集合,将所调用的第二参数集合中的特有参数的默认信息添加至所述参数配置。
可选的,所述第二参数集合还包括公共参数的修改信息;所述基于指定的脉冲序列调用所述第一参数集合和对应参数集合,以生成所述脉冲序列的参数配置还包括:以所调用的第二参数集合中的公共参数的修改信息替换所述参数配置中相同公共参数的默认信息。
可选的,所述默认信息包括参数值的默认值和/或默认的属性信息。
可选的,所述磁共振成像的控制方法还包括:设置至少一个第三参数集合,所述第三参数集合包括适用于单个脉冲序列的公共参数和/或特有参数的参数值;所述对应参数集合还包括对应于所述指定的脉冲序列的第三参数集合;所述基于指定的脉冲序列调用所述第一参数集合和对应参数集合,以生成所述脉冲序列的参数配置还包括:调用所述对应于所述指定的脉冲序列的第三参数集合,以所调用的第三参数集合中的公共参数和/或特有参数的参数值作为所述参数配置中相同公共参数和/或特有参数最终确定的参数值。
可选的,所述公共参数包括:基本参数、片层定位参数、K空间参数、磁化准备参数和重建参数中的至少一种。
可选的,所述第一参数集合、第二参数集合和第三参数集合记录在参数配置文件中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司,未经上海联影医疗科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310270450.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种阻燃耐火材料的制备方法
- 下一篇:PVC、PS共混改性配方