[发明专利]制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法无效
| 申请号： | 201310271834.1 | 申请日： | 2013-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN103343327A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 洪瑞金;张大伟;王琦;陶春先;黄元申;盛斌 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/58 | 分类号： | C23C14/58;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人： | 脱颖 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 晶态 透明 氧化锌 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法，包括步骤：
室温下采用磁控反应溅射法在基底上沉积金属锌薄膜；以及
在大气环境下对沉积有金属锌薄膜的基底进行热处理，
其中，热处理温度为400℃～600℃，升温速率为每分钟30至80摄氏度，并且热处理时间为1～2小时。
2.权利要求1的方法，其中热处理温度为450℃～550℃。
3.权利要求1的方法，其中热处理温度为490℃～510℃。
4.权利要求3的方法，其中热处理的升温速率为每分钟50至70摄氏度。
5.权利要求4的方法，其中热处理时间为1.2～1.5小时。
6.权利要求1的方法，其中在基底上沉积金属锌薄膜是在真空度为2×10-4Pa以上的真空室中进行的。
7.权利要求1的方法，其中在基底上真空沉积金属锌薄膜所采用的溅射靶为纯度99.99％以上的金属锌。
8.权利要求7的方法，其中轰击溅射靶所采用的工作气体为氩气，工作气体的气压为10-2～10J Pa。
9.权利要求1的方法，其中基底为石英、玻璃、晶体或硅片。
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