[发明专利]光学玻璃、光学元件及预成型体在审
申请号: | 201310271860.4 | 申请日: | 2013-06-27 |
公开(公告)号: | CN103524038A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 川中裕次;前川公贵;野嶋浩人 | 申请(专利权)人: | 株式会社小原 |
主分类号: | C03C3/17 | 分类号: | C03C3/17;C03C3/19;C03C3/21;C03C3/062;C03C3/064;C03C3/066;C03C3/068;C03C3/23;C03B11/08;G02B1/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;王大方 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 光学 元件 成型 | ||
技术领域
本发明涉及光学玻璃、光学元件及预成型体。
背景技术
近年来,使用光学系统的机器的数字化及高精密化迅速发展,对以数码相机、摄像机等摄影设备为代表的各种光学设备中使用的透镜等光学元件的高精度化及轻质化的要求日趋强烈。
特别是利用磨削、研磨法制作非球面透镜的成本高、效率低,因此作为非球面透镜的制造方法,将玻璃坯或玻璃块切断·研磨,使得到的预成型体材料加热软化,利用具有高精度的面的成型模将其进行加压成型,由此省略磨削·研磨工序,实现低成本·大量生产。
作为能够用于上述加压成型的光学玻璃中,特别是对能够实现光学元件的薄型化和轻质化的、具有高折射率(nd)和高阿贝数(νd)的玻璃的需求非常高。作为上述高折射率、低分散玻璃,例如作为具有1.50以上的折射率的光学玻璃,已知有以专利文献1~5为代表的玻璃。
【专利文献1】日本特开2008-137877号公报
【专利文献2】日本特开2009-256149号公报
【专利文献3】日本特开2010-235429号公报
【专利文献4】日本特开2012-001422号公报
【专利文献5】日本特开2012-012282号公报
发明内容
然而,对于专利文献1~5中记载的光学玻璃,进行加压成型时多数情况下发生玻璃破裂或裂纹。此处,对于加压成型后产生破裂或裂纹的玻璃,已经无法用作光学元件。因此,期望开发出加压成型时的破裂或裂纹得以减少的光学玻璃。
本发明是鉴于上述问题完成的,其目的在于提供一种光学玻璃、和使用其的预成型体及光学元件,所述光学玻璃具有所期望的高折射率及阿贝数、且能减少加压成型时的玻璃的破裂或裂纹、进而能提高光学元件的生产率。
本发明人等为了解决上述课题,进行了深入的研究,从而完成了本发明。具体而言,本发明提供以下方案。
(1)一种光学玻璃,所述光学玻璃含有P5+及Al3+作为阳离子成分,含有O2-及F-作为阴离子成分,折射率(nd)为1.50以上,玻璃化温度(Tg)和屈服点(At)之间的温度范围内的线膨胀系数的最大值(αmax)为1500×10-7K-1以下。
(2)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,含有20.0~55.0%的P5+、5.0~30.0%的Al3+,Ca2+的含量为0~30.0%。
(3)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,Sr2+的含有率为0~25.0%。
(4)如(1)所述的光学玻璃,其中,进一步含有Ca2+及Sr2+作为阳离子成分。
(5)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,含有20.0~55.0%的P5+、5.0~30.0%的Al3+、0.1~30.0%的Ca2+及0.1~25.0%的Sr2+。
(6)如(1)所述的光学玻璃,其中,P5+含有率及Al3+含有率的总量(阳离子%)为30.0%以上~65.0%以下。
(7)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,Ba2+的含有率为45.0%以下。
(8)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,Ca2+含有率相对于Sr2+含有率之比(Ca2+/Sr2+)为0.50以上。
(9)如(1)所述的光学玻璃,其中,Ca2+含有率及Ba2+含有率的总量(阳离子%)为10.0%以上~60.0%以下。
(10)如(1)所述的光学玻璃,其中,以阳离子%(摩尔%)表示,Mg2+的含有率为30.0%以下。
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