[发明专利]人工栽培雪莲的方法

权利要求书

1.一种人工栽培雪莲的方法，其特征在于：主要通过以下过程实现的：

基地选择：选择海拔1800米以上、7月份平均气温应低于15摄氏度的高山草甸或砾石坡作为栽培地，要求地面坡度小于15°；

摆放伴生基质：以厚度为大于10cm、长大于45cm、高大于30cm的水泥板或者直径大于30cm的卵石或石块为伴生基质，将伴生基质环形或条形排放，条形排放时，方向与风向保持大于60度角～垂直，伴生基质之间的行距为30～50cm，伴生基质下部埋入土中，露出地面部分为15～20cm，将伴生基质周围泥土踏实；

播种：4月～5月气温稳定后，当土壤湿度为60%～70%时，即可整地播种，先将伴生基质附近土壤整松耙平，然后将雪莲种子点播在伴生基质附近5cm以内的土壤中，每块伴生基质周围点播2～3穴；每穴3～5粒种子，播深1cm～1.5cm；

定苗：当雪莲幼苗长出3片真叶时，开始定苗，每穴保留一颗健壮幼苗；

灌溉：苗期适当蹲苗25～35天后，视苗情浇头水，自上向下坡浇灌，所述浇灌可采取漫灌、喷灌或滴灌方式中的一种，以后根据天气及苗情15～20天灌溉一次。