[发明专利]防爆的半导体模块有效

专利信息
申请号: 201310275261.X 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN103531544A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 奥拉夫·霍尔费尔德;吉多·伯尼希;乌韦·詹森 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L23/00 分类号: H01L23/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;李慧
地址: 德国瑙伊*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 防爆 半导体 模块
【权利要求书】:

1.一种半导体模块,包括:

导电的下接触件(31)和在垂直方向(v)上与所述下接触件间隔开的、导电的上接触件(32);

数量为N≥1的半导体芯片(1),其中每个所述半导体芯片:

-具有第一负载接口(11)和第二负载接口(12);

-利用所述半导体芯片的所述第二负载接口(12)与所述下接触件(31)导电连接;和

-借助于至少一个在所述第一负载接口(11)上粘合的粘合线(4)与所述上接触件(32)导电连接;

防爆剂(62),所述防爆剂布置在所述第一负载接口(11)和所述上接触件(32)之间,并且所述粘合线(4)中的每个粘合线超过所述粘合线长度的至少80%或至少90%埋入所述防爆剂中。

2.根据权利要求1所述的半导体模块,其中所述防爆剂(62)的熔点至少为1000℃。

3.根据权利要求1或2所述的半导体模块,其中所述防爆剂(62)具有粒料或者设计为粒料。

4.根据前述权利要求中任一项所述的半导体模块,具有由填料(61)或聚酰亚胺(63)组成的覆盖层(61,63),所述覆盖层在所述半导体芯片(1)中的每个半导体芯片的上方从所述半导体芯片的第一负载接口(11)在朝向所述上接触件(32)的方向上延伸,并且所述覆盖层在此处具有厚度(d61,d63),所述厚度最大为所有的在所述第一负载接口(11)上粘合的所述粘合线(4)的最大额定直径的三倍。

5.根据权利要求1所述的半导体模块,其中所述覆盖层(61,63)具有的穿透度小于30。

6.根据权利要求4或5所述的半导体模块,其中所述防爆剂(62)通过所述填料(61)和/或通过所述覆盖层(61,63)与所述半导体芯片(1)中的每个半导体芯片间隔开。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的半导体模块,具有导电的、金属的覆盖层(65),所述覆盖层借助于导电的连接层(66)安置在所述第一负载接口(11)的、背对所述第二负载接口(12)的侧面上,并且通过所述连接层(66)形状配合地并且与所述第一负载接口(11)导电连接。

8.根据权利要求7所述的半导体模块,其中金属的所述覆盖层(65)具有钼或者由钼制成。

9.根据权利要求7所述的半导体模块,其中金属的所述覆盖层(65)具有彼此连续布置的第一金属次层(651)、第二金属次层(652)和第三金属次层(653),其中,所述第二金属次层(652)布置在所述第一金属次层(651)和所述第三金属次层(653)之间。

10.根据权利要求9所述的半导体模块,其中所述第一金属次层(651)和所述第三金属次层(653)具有相同材料或由相同材料制成。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的半导体模块,其中金属的所述覆盖层(65)具有在从0.2mm至2.0mm的范围中的厚度(d65)。

12.根据权利要求7所述的半导体模块,其中金属的所述覆盖层(65)具有铜或由铜制成。

13.根据权利要求12所述的半导体模块,其中金属的所述覆盖层(65)具有在从0.1mm至0.5mm的范围中的厚度(d65)。

14.根据权利要求7至13中任一项所述的半导体模块,其中所述防爆剂(62)直接贴靠在金属的所述覆盖层(65)的、背对所述第二负载接口(12)的侧面上。

15.根据权利要求7至14中任一项所述的半导体模块,其中所述连接层(66)

直接邻接于所述覆盖层(65);和

直接邻接于所述第一负载接口(11);和

设计为焊接层,或者设计为具有烧结的金属粉末的层。

16.根据前述权利要求中任一项所述的半导体模块,其中所述第一负载接口(11)设计为金属化层,所述金属化层具有铝或铜,或由铝或铜制成。

17.根据权利要求16所述的半导体模块,其中所述第一负载接口(11)具有在从7μm至100μm的范围中、或在从10μm至40μm的范围中的厚度(d11)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310275261.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top