[发明专利]一种双膜覆盖沟形温室种植方法

权利要求书

1.双膜覆盖沟形温室种植模式，是在铺膜播种后再覆盖一层膜，两次铺膜作业由配套点播机一次完成，其特征是：第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上，种子点播在沟底的膜下面，膜孔上有封闭膜孔的覆土带；第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室。

2.如权利要求1所述的双膜覆盖沟形温室种植模式，其特征是：倒梯形断面的小沟的沟壁顶部高出地面，形成小埂，沟底距地面高度3-10厘米，沟底距埂面高度8-20厘米。

3.和双膜覆盖沟形温室种植模式配套的双膜覆盖沟形温室点播机，包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器，其特征是：在机架(1)前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲及其两侧刮土板组成的开沟扶埂器(2)，后面是下膜铺膜机构(4)，接着是带筛网的膜上覆土滚筒(5)，和点种器(6)，最后是上膜铺膜机构(7)和上膜覆土滚筒(8)。

4.如权利要求3所述的双膜覆盖沟形温室点播机，其特征是：由开沟铲(10)及其两侧刮土板(9)组成的开沟扶埂器(2)，其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板(11)，两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板(12)。

5.如权利要求3所述的双膜覆盖沟形温室点播机，其特征是：带筛网的膜上覆土滚筒(5)在机架上的安装位置和铺好的下膜对正，滚筒中部的半径变小，半径变小的量等于土埂上表面到地面的高度；覆土滚筒靠近取土圆盘的外侧端头有一个凹形存土槽(13)，固定在滚筒内壁的导土螺旋片(14)带有折弯的挡土边，其进土端与凹形存土槽相接；覆土滚筒的筒壁上与开沟扶埂器所开的小沟相对的位置有出土间隙(15)，出土间隙上设有筛土网。