[发明专利]一种眼镜片减反射膜层及其制备方法

权利要求书

1.一种眼镜片减反射膜层，其特征在于，按远离镜片基片的顺序，依次包括第一二氧化硅层、第一氧化锆层、第二二氧化硅层、第二氧化锆层、氧化铟锡层、第三二氧化硅层。

2.根据权要求1所述的眼镜片减反射膜层，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为140-180nm，第一氧化锆层的厚度为18-35nm，第二二氧化硅层的厚度为10-20nm，第二氧化锆层的厚度为65-90nm，氧化铟锡层3-8nm，第三二氧化硅层60-80nm。

3.根据权要求2所述的眼镜片减反射膜层，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为150-160nm，第一氧化锆层的厚度为22-30nm、第二二氧化硅层的厚度为12-16nm、第二氧化锆层的厚度为72-80nm、氧化铟锡层4-6nm、第三二氧化硅层65-75nm。

4.根据权要求3所述的眼镜片减反射膜层，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为152-158nm，第一氧化锆层的厚度为26-27nm、第二二氧化硅层的厚度为14-14.5nm、第二氧化锆层的厚度为74-76nm、氧化铟锡层5-5.5nm、第三二氧化硅层65-70nm。

5.根据权利要求1所述的眼镜片减反射膜层，其特征在于，所述第三二氧化硅层上设有防水膜。

6.一种如权利要求1所述眼镜片减反射膜层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，将镜片基片放入中空镀膜机中，用电子枪镀第一二氧化硅层、第一氧化锆层、第二二氧化硅层、第二氧化锆层；

步骤2，用离子束辅助沉积方法镀氧化铟锡层；

步骤3，继续用电子枪镀第三二氧化硅层。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为140-180nm，第一氧化锆层的厚度为18-35nm、第二二氧化硅层的厚度为10-20nm、第二氧化锆层的厚度为65-90nm、氧化铟锡层3-8nm、第三二氧化硅层60-80nm。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，还包括步骤4：镀上防水膜。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，在镀膜前，先用离子预清洗清洁镜片表面至少1min。

10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述镜片基片在放入真空镀膜机中前，先在60-80℃的条件下预热1-5h。