[发明专利]溅射靶材及氧化金属薄膜有效
| 申请号： | 201310280288.8 | 申请日： | 2013-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN103540895B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 卢明昌;郭芝吟;尹新淳;张智咏 | 申请（专利权）人： | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司31266 | 代理人： | 须一平 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅射 氧化 金属 薄膜 | ||
1.一种溅射靶材，其特征在于：该溅射靶材包含：一种氧化金属组成物，包括氧化铟、氧化锌及氧化锡，基于铟、锌及锡的原子总含量100at.%计，铟的原子含量范围为60至80at.%，锌的原子含量范围为10至25at.%，锡的原子含量范围为1至20at.%，且锌的原子含量大于锡的原子含量。
2.如权利要求1所述的溅射靶材，其特征在于：该锌原子含量与锡原子含量间比值大于1且小于2。
3.如权利要求2所述的溅射靶材，其特征在于：该氧化金属组成物不含以铟、锌及氧所构成的六方晶层状化合物。
4.如权利要求1所述的溅射靶材，其特征在于：该氧化金属组成物包括一个主体，以及一个成份比例异于该主体的副成份。
5.如权利要求4所述的溅射靶材，其特征在于：该主体为由铟、锌、锡及氧所构成的晶相为方铁锰矿结构。
6.如权利要求4所述的溅射靶材，其特征在于：该副成份为由铟、锌、锡及氧所构成的化合物，且副成份中铟的原子含量百分比小于主体中铟的原子含量百分比。
7.如权利要求4所述的溅射靶材，其特征在于：该副成份为由铟、锌、锡及氧所构成的化合物，且副成份中锌的原子含量百分比大于主体中锌的原子含量百分比。
8.如权利要求1所述的溅射靶材，其特征在于：该氧化金属组成物的绝对密度不小于6g/cm3。
9.一种氧化金属薄膜，其特征在于：该氧化金属薄膜是由权利要求1所述的溅射靶材所形成，其薄膜结晶温度在250℃以上。
10.如权利要求9所述的氧化金属薄膜，其特征在于：该氧化金属薄膜的电阻率不大于5×10-4Ω·cm，且透光率不小于85%。
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