[发明专利]热界面均匀性检测系统及方法有效
| 申请号： | 201310284547.4 | 申请日： | 2013-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN103364101A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 刘刚;唐晓军;赵鸿;王超;刘洋;刘磊;王钢 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | G01K11/30 | 分类号： | G01K11/30;G01N21/17 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 张蕾 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 界面 均匀 检测 系统 方法 | ||
1.一种热界面均匀性检测系统，其特征在于，包括：光源、光学检测设备、设置在所述光源和所述光学检测设备之间的光学介质；
所述光学介质的一侧设有高温源，另一侧设有低温源；
通过所述高温源和所述低温源作用，使所述光学介质内产生预定温度梯度的温度场，所述光学检测设备对经该温度场传播来的光进行检测确定所述待检测热界面是否均匀。
2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述高温源与所述待检测热界面之间设有高温均温器，所述高温均温器用于使所述高温源上的能量均匀的传递到所述待检测热体上。
3.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述光学介质与所述低温源之间设置有低温均温器，所述低温均温器用于使所述低温源上的能量均匀的传递到所述光学介质上。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的检测系统，其特征在于，所述光学介质为晶体，玻璃，陶瓷或者其它对检测光束为透明的材料。
5.根据权利要求1-3任意一项所述的检测系统，其特征在于，所述光源发出的光束为一束或多束。
6.一种应用权利要求1-5任意一项所述的热界面均匀性检测系统的检测方法，其特征在于，包括：光源、光学检测设备、设置在所述光源和所述光学检测设备之间的光学介质；
光源发出的光经光学介质到达光学检测设备，所述光学检测设备通过检测经该温度场传播来的光确定所述待检测热界面是否均匀。
7.根据权利要求6所述的检测方法，其特征在于，所述光学检测设备对经该温度场传播来的光进行检测确定所述待检测热界面是否均匀的步骤具体包括：
所述光学检测设备对经该温度场传播来的光进行检测，当检测到光斑形状和位置变化、光强度分布变化，干涉条纹变化或者是波前畸变时，则判定所述待检测热界面不均匀，否则，则判定所述待检测热界面均匀。
8.根据权利要求6所述的检测方法，其特征在于，所述高温源与所述待检测热界面之间设有高温均温器，通过所述高温均温器使所述高温源上的能量均匀的传递到所述待检测热体上。
9.根据权利要求6所述的检测方法，其特征在于，所述光学介质与所述低温源之间设置有低温均温器，通过所述低温均温器使所述低温源上的能量均匀的传递到所述光学介质上。
10.根据权利要求6-9任意一项所述的检测系统，其特征在于，所述光源发出的光束为一束或多束。
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