[发明专利]系统、真空辊及用于将仿形材料施加到基板上的方法无效

专利信息
申请号: 201310284755.4 申请日: 2013-07-08
公开(公告)号: CN104108226A 公开(公告)日: 2014-10-22
发明(设计)人: J·A·纳什 申请(专利权)人: H.B.富勒公司
主分类号: B32B37/10 分类号: B32B37/10;B32B39/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 马利蓉;吴鹏
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 系统 真空 用于 将仿形 材料 施加 到基板上 方法
【权利要求书】:

1.一种系统,所述系统包括:

一真空辊,其构造用于接收材料,其中所述真空辊限定具有仿形部的外周面;以及

一元件,该元件与所述真空辊一起形成辊隙,从而使得来自于所述真空辊的材料能够被施加到一通过所述辊隙而前行的基板上。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述仿形部形成凸型形状。

3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述真空辊的外周面还包括凹部。

4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述仿形部与所述凹部相对。

5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述仿形部形成凹型形状。

6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述真空辊的外周面还包括凹部。

7.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述元件限定外周面,其中,所述元件的所述外周面具有与所述真空辊的凸型形状相吻合的凹部。

8.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统还包括构造用于将粘合剂施加到所述材料上的粘合剂施加模块。

9.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统还包括用于检测基板位置的至少一个传感器和至少一个线速度编码器。

10.根据权利要求9所述的系统,其特征在于,所述系统还包括控制器,所述控制器构造用于接收来自于所述至少一个传感器和所述至少一个线速度编码器的信号,并且使得来自于所述真空辊的材料的位置与所述基板同步。

11.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述仿形部仅形成单个凸型单元体。

12.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述仿形部仅形成单个凹型单元体。

13.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述真空辊包括:

毂,其限定外周面,并且包括第一壁、第二壁、形成于所述第一壁中的轴向延伸的第一孔、形成于所述外周面中的第二孔,其中所述第一孔与所述第二孔连通;以及

歧管,其与所述毂的所述第一壁联接,所述歧管包括构造用于与所述毂的所述第一孔顺序地连通的弧形槽。

14.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统包括送料部,该送料部包括用于使来自送料源的材料前行的送料辊和惰轮。

15.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统包括用于对待施加到所述基板上的材料进行处理的材料准备部。

16.根据权利要求15所述的系统,其特征在于,该材料准备部包括用于当材料位于所述真空辊上时对材料加热的加热器。

17.一种真空辊,所述真空辊包括:

毂,其限定具有仿形部的外周面,并且包括第一壁、第二壁、形成于所述第一壁中的轴向延伸的第一孔、形成于所述外周面中的第二孔,其中所述第一孔与所述第二孔连通;以及

歧管,其与所述毂的所述第一壁联接,所述歧管包括构造用于与所述毂的所述第一孔顺序地连通的弧形槽。

18.根据权利要求17所述的真空辊,其特征在于,所述仿形部形成凸型形状。

19.根据权利要求18所述的真空辊,其特征在于,所述真空辊的外周面还包括凹部。

20.根据权利要求19所述的真空辊,其特征在于,所述仿形部与所述凹部相对。

21.根据权利要求17所述的真空辊,其特征在于,所述仿形部形成凹型形状。

22.根据权利要求21所述的真空辊,其特征在于,所述真空辊的外周面还包括凹部。

23.根据权利要求18所述的真空辊,其特征在于,所述仿形部仅形成单个凸型单元体。

24.根据权利要求21所述的真空辊,其特征在于,所述仿形部仅形成单个凹型单元体。

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