[发明专利]一种无线射频镀铜天线及其制备方法有效
申请号: | 201310284934.8 | 申请日: | 2013-07-08 |
公开(公告)号: | CN103367895A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 方钦爽 | 申请(专利权)人: | 温州格洛博电子有限公司 |
主分类号: | H01Q1/38 | 分类号: | H01Q1/38 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 王梨华;陈丽霞 |
地址: | 325802 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无线 射频 镀铜 天线 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及非接触式自动识别技术领域,尤其涉及了一种无线射频镀铜天线及其制备方法。
背景技术
近年来,国内外RFID电子标签应用需求不断增加,特别是在物流、商品等领域,大规模应用不断涌现。
RFID电路的一个重要元件是无线射频天线。无线射频天线目前一般可通过利用导电油墨印刷生产,或者通过蚀刻铝箔制得,或者印刷银浆导电基电镀铜制得。但因为导电油墨通常缺少导电性与一致性,它提供不了高品质的天线,目前市场上基本很少用导电印刷天线;目前市面应用最多的是铝箔蚀刻天线,但相对铜,铝的导电性比较差,因此,铝蚀刻天线仍然不是应用需求首选;但通过印刷银浆导电基电镀铜制得铜天线,因为存在银浆油墨成本高、银浆印刷线条精度差、印刷速度慢、印刷一致性差等难以克服的因素,镀铜天线不但价格高,而且难以满足快速生产。
发明内容
本发明针对现有技术中传统无线射频天线导电性能弱、成本高和一致性差缺点,提供了一种无线射频镀铜天线及其制备方法。
为了解决上述技术问题,本发明通过下述技术方案得以解决:
一种无线射频镀铜天线,包括镀铜层、铝导电基层和薄膜,铝导电基层位于镀铜层与薄膜之间。
作为优选,镀铜层厚度为2—38um;铝导电基层厚度为0.02—0.18nm。
作为优选,薄膜为聚酯薄膜或聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜或聚酰亚胺薄膜。
一种无线射频镀铜天线制备方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤一:在薄膜上印刷水洗油墨,印刷的水洗油墨图案与设计天线图成对应关系;
步骤二:在薄膜上真空蒸镀铝层,形成真空镀铝膜,铝层选用高纯铝,铝层的电阻低于1欧姆;
步骤三:将真空镀铝膜在水中浸泡0.5-2秒,从水中取出之后用高压超纯水冲洗1-3次,薄膜上形成镂空的天线形状铝导电基层,在室温下超纯水的电阻率为15—19MΩ*CM极限值;
步骤四:将含有镂空的天线形状铝导电基层的薄膜浸泡在电镀槽液通电电镀,形成镀铜层,天线成型。
作为优选,水洗油墨是用水能冲洗的油墨,油墨按质量百分比包括10-30%的低粘度醇或水溶性高分子树脂、11—15%的钛白粉、6—7%的防沉剂、6—7%的吸湿剂、0.7-0.8%的分散剂和20-30%的醇其余组分为水的混合溶剂。
作为优选,防沉剂为有机膨润土,吸湿剂为有硅胶,分散剂为三乙基己基磷酸。
作为优选,防沉剂为气相二氧化硅,吸湿剂为氧化铝,分散剂为十二烷基硫酸钠。
作为优选,防沉剂为聚酰胺蜡,吸湿剂为分子筛,分散剂为甲基戊醇。
作为优选,在步骤一中,天线图通过应用频率或电子标签根据环境要求模拟推算而成。
作为优选,在步骤四中,电镀槽镀液组成及操作条件为:硫酸铜168—179g/L,浓硫酸30—80g/L,氯离子30—60mg/L,开缸剂9—10mL/L,光亮剂A0.5—0.7mL/L,光亮剂B0.3—0.4mL/L,温度40—50℃,阴极电流密度2—7A/dm2,磷铜阳极磷质量分数为0.04%—0.05%。开缸剂主要包含苄叉丙酮、平平加和扩散剂,苄叉丙酮作为载体,其作用是提高镀层光亮度;光亮剂中主要包含苄叉丙酮、平平加和扩散剂,苄叉丙酮作为载体,光亮剂A与光亮B的区别在于,光亮剂A中苄叉丙酮的含量大于光亮剂B的含量,其作用是可以提高镀层的光亮度和分散能力。开缸剂与光亮剂A可以互换使用。该工艺所得镀层不易产生针孔,光泽度高,内应力低,延展性好,厚度均匀;沉积速度快,镀液稳定,对杂质的容忍度高。
本发明由于采用了以上技术方案,具有显著的技术效果:
本发明克服传统易碎纸上印刷导电银浆形成的易碎天线导电性能弱、成本高、一致性差的缺陷,不但创造了一种新的高品质的无线射频天线结构,而且创造了一种新的易碎防伪无线射频天线的制备方法,这种新的制备方法生产成本低,生产速度快,天线导电性能好的特点。
附图说明
图1是本发明的结构图。
图2是本发明的工艺流程图。
附图中各数字标号所指代的部位名称如下:1—镀铜层、2—铝导电基层、3—薄膜。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明作进一步详细描述。
实施例1
一种无线射频镀铜天线,如图1所示,包括镀铜层1、铝导电基层2和薄膜3,铝导电基层2位于镀铜层1与薄膜3之间。
镀铜层1厚度为2um;铝导电基层2厚度为0.02nm。薄膜3为聚酯薄膜。
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