[发明专利]一种反射偏光增亮膜及其制造方法有效
申请号: | 201310285758.X | 申请日: | 2013-07-09 |
公开(公告)号: | CN103364992A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 李明伟 | 申请(专利权)人: | 李明伟 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357;G02B5/30;G02B5/02 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人: | 刘文求 |
地址: | 635100 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 偏光 增亮膜 及其 制造 方法 | ||
1.一种反射偏光增亮膜,其结构特征在于,包括一体设置的1/4波长位相差基材,液晶层,抗静电层,以及聚光层或扩散层;所述1/4波长位相差基材的一面从里向外依次设置所述液晶层和抗静电层,所述1/4波长位相差基材的另一面设置所述聚光层或扩散层。
2.根据权利要求1所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述抗静电层为雾化层或透明层;
所述雾化层包括多个表面粗糙度Ra值为0.10至0.5具有雾化效果的凸半球形珠体结构。
3.根据权利要求2所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述雾化层包括多个均匀排列大小相同的微透镜列阵的凸半球形珠体结构,或是,多个大小不一的微透镜列阵的凸半球形珠体结构;所述微透镜列阵的凸半球形珠体结构的直径为3~50微米。
4.根据权利要求1所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述液晶层的原料是由向列相液晶、手性剂、聚合物单体、光引发剂混合而成;其液晶层的原料组成按重量百分比计包括40-60% 向列相液晶 、35-50%聚合物单体、3-8%手性剂及2-6%光引发剂。
5.根据权利要求4所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述向列相液晶为扭曲向列相液晶、高扭曲向列相液晶或超扭曲向列相液晶;所述手性剂采用扭曲力大于20以上的手性剂化合物材料;所述聚合物单体采用高纯化且折射率为1.5至1.73的丙烯酸酯单体或者丙烯酸酯低聚物。
6.根据权利要求4或5所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述液晶层采用UV固化方式,形成旋光螺距为Pitch 15-30um且具有反射偏光作用的液晶光学薄膜。
7.根据权利要求1所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述聚光层为V-cut聚光结构,包括多个均匀排列的锯齿状的折射面或多个高低不等排列的锯齿状的折射面;相邻锯齿状的折射面的间距是24至50微米,锯齿状的折射面的高度是12至25微米;
所述扩散层包括多个表面粗糙度Ra值为0.10至0.5具有雾化效果的凸半球形珠体结构。
8.根据权利要求1所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述抗静电层、聚光层和扩散层所采用材料为UV聚合物,所述UV聚合物采用折射率为1.5至1.73的丙烯酸酯单体或丙烯酸酯低聚物或丙烯酸酯单体或丙烯酸酯低聚物共混物;所述抗静电层、液晶层和聚光层或扩散层均采用UV固化方式制成。
9.根据权利要求1所述的反射偏光增亮膜,其特征在于,所述1/4波长位相差基材的厚度为30至200um,所述液晶层的厚度为10um以下,所述抗静电层的厚度为3-10um。
10.一种反射偏光增亮膜的制造方法,其特征在于,所述反射偏光增亮膜包括1/4波长位相差基材,抗静电层,液晶层,以及聚光层或扩散层,其制造方法具体包括以下步骤:
按比例混合向列相液晶、手性剂、聚合物单体和光引发剂,得到向列相液晶混合体,将所述向列相液晶混合体涂布于所述1/4波长位相差基材的一面上,UV固化形成所述液晶层;
在所述液晶层上涂布并UV固化形成所述抗静电层;
在所述1/4波长位相差基材的另一面上涂布并UV固化形成所述聚光层或扩散层。
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