[发明专利]显影装置和使用该显影装置的图像形成设备有效
申请号: | 201310286429.7 | 申请日: | 2013-07-09 |
公开(公告)号: | CN103838106B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 佐久间胜;大久保旨宣;三井伸志;堤保幸;饭仓和昭;二宫洋介;尾崎善史;野田明彦;滨野弘一;若井孝文 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 党晓林;王小东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 装置 使用 图像 形成 设备 | ||
本发明涉及显影装置和使用该显影装置的图像形成设备。该显影装置包括:色调剂保持构件,其以能旋转的方式设置成面对图像保持构件,并保持非磁性单组分色调剂并向显影区域输送该非磁性单组分色调剂,以将图像保持构件上的静电潜像显影;供应构件,其以能旋转的方式设置成与色调剂保持构件弹性接触,从而将色调剂从该供应构件与色调剂保持构件之间的接触区域供应到色调剂保持构件;色调剂补充单元,其面对位于远离接触区域的部分处的补充区域,从而补充新色调剂;以及限制构件,其设置在接触区域的沿旋转方向的下游侧以及显影区域的上游侧,从而对保持在色调剂保持构件上的色调剂摩擦充电,并限制为了显影而提供的色调剂的量。
技术领域
本发明涉及一种显影装置和使用该显影装置的图像形成设备。
背景技术
在相关技术中,已经知道例如在JP-A-2009-069367(具体实施方式、图和图4,专利文献1)中公开的显影装置。
专利文献1公开了一种图像形成设备,该图像形成设备能够抑制显影装置中的反向转印色调剂的比例随着时间而增加,从而长期维持色彩的可再现性。在该图像形成设备中,将具有显影辊、供应辊和搅拌构件的显影槽从与该显影槽水平相邻的供应槽分离开的分隔壁的高度(上端)被设定为比供应辊和搅拌构件的高度高,由此防止显影槽中的色调剂反向流动到供应槽内或者提供防止显影槽中的色调剂反向流动到供应槽内的反向流动防止单元。因而,反向转印色调剂滞留在显影槽中,能够稳定显影槽中的反向转印色调剂的比例,并且能够消耗一定量的反向转印色调剂(执行本发明的最佳方式,图2和图4)。
发明内容
鉴于本发明所要解决的技术问题,本发明的目的是提供一种显影装置和使用该显影装置的图像形成设备,在色调剂借助供应构件被供应到色调剂保持构件的方面中,该显影装置能够通过防止附着于供应单元上的具有不同带电特性的旧的和新的色调剂混合来优先消耗旧的色调剂。
根据本发明的第一方面,提供了一种显影装置,该显影装置包括:色调剂保持构件,该色调剂保持构件以能旋转的方式设置成面对在保持静电潜像的情况下循环运行的图像保持构件,该色调剂保持构件保持非磁性单组分色调剂并朝向与所述图像保持构件相对的显影区域输送该非磁性单组分色调剂,从而将所述图像保持构件上的静电潜像显影;供应构件,该供应构件在能弹性变形的弹性构件的周面上具有可捕获色调剂的粗糙表面,并以能旋转的方式设置成与所述色调剂保持构件弹性接触,从而将色调剂从与所述色调剂保持构件接触的接触区域供应到所述色调剂保持构件;色调剂补充单元,该色调剂补充单元面对位于远离所述供应构件的与所述色调剂保持构件接触的所述接触区域的部分处的补充区域,从而补充新色调剂;以及限制构件,该限制构件设置在所述色调剂保持构件中的与所述供应构件接触的所述接触区域的沿该色调剂保持构件的旋转方向的下游侧以及所述色调剂保持构件的所述显影区域的沿该色调剂保持构件的旋转方向的上游侧,从而对保持在所述色调剂保持构件上的色调剂摩擦充电,并限制为了显影而提供的色调剂的量,其中,在所述色调剂补充单元中,容纳新色调剂从而可补充该新色调剂的容纳室借助色调剂输送路径连接至布置有所述供应构件和所述色调剂保持构件的显影室,其中所述色调剂输送路径的显影室侧开口位于所述色调剂输送路径的容纳室侧开口的下方,并且被布置成面对所述供应构件的旋转中心以下的区域,并且其中所述供应构件在面对所述色调剂输送路径的所述显影室侧开口的部分处从该供应构件的下侧朝向上侧旋转。
根据本发明的第二方面,在第一方面中描述的显影装置中,所述色调剂输送路径的容纳室侧开口的下端可以位于其中色调剂被所述限制构件限制的部分的下方。
根据本发明的第三方面,在第一或第二方面中描述的显影装置中,所述色调剂输送路径可具有:纵向通道,该纵向通道沿着基本竖直方向在纵向方向上延伸;和横向通道,该横向通道从所述纵向通道折曲并朝向所述供应构件在横向方向上延伸。
根据本发明的第四方面,在第三方面中描述的显影装置中,在所述色调剂输送路径中,从所述纵向通道到所述横向通道的折曲部分可以形成为弯曲形状。
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