[发明专利]空间折反射式多通道成像光学系统有效

专利信息
申请号: 201310288153.6 申请日: 2013-07-10
公开(公告)号: CN103345050A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 汤天瑾 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G02B17/06 分类号: G02B17/06;G02B27/10;G02B27/00;G01J3/28
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 安丽
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 空间 反射 通道 成像 光学系统
【权利要求书】:

1.空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:采用无中间像离轴三反光学系统形式,包括主镜(1)、折反射式次镜(2)、三镜(4)、切换反射镜(5)、微光通道焦面器件(6)、分色片(7)、可见光通道焦面器件(8)、近红外通道焦面器件(9);空间折反射式多通道成像光学系统包括可见光通道、近红外通道和微光通道,切换反射镜(5)在微光通道成像时切入光路,在可见及近红外通道成像时切出光路;分色片(7)前表面镀有分色膜;成像目标的辐射光束经主镜(1)反射至折反射式次镜(2)的前表面,可见光通道和近红外通道光束经折反射式次镜(2)的前表面透射,至折反射式次镜(2)的后表面反射后,透过折反射式次镜(2)的前表面至三镜(4),其中可见光通道的光束经分色片(7)的前表面反射,到达可见光通道焦面器件(8)处成像;近红外通道的光束透过分色片(7)到达近红外通道的焦面器件(9)处成像;晨昏时刻切换反射镜(5)切入光路,微光通道光束经过主镜(1)、折反射式次镜(2)的前表面和三镜(4)反射后,到达切换反射镜(5)前表面,经切换反射镜(5)反射后到达微光通道焦面器件(6)处成像。

2.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的离轴三反光学系统的主镜(1)和三镜(4)面形均为凹非球面反射镜,折反射式次镜(2)的面形为凸球面,切换反射镜(5)和分色片(7)的两面均为平面。

3.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的主镜(1)和三镜(4)材料为碳化硅或熔石英,折反射式次镜(2)、切换反射镜(5)和分色片(7)为无色光学玻璃。

4.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的主镜(1)、三镜(4)的反射面均镀有金属高反射率反射膜,折反射式次镜(2)的前表面镀有高反低透膜,折反射式次镜(2)的后表面镀有金属高反射率反射膜。

5.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的切换反射镜(5)为平板,分色片(7)为楔板,分色片(7)的中心轴与次镜(2)中心轴不重合。

6.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的微光通道谱段范围为0.45μm-1μm;可见光通道谱段范围0.5μm-0.8μm;近红外通道谱段范围为0.8-1μm。

7.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的微光通道的相对孔径大于可见光和近红外通道的相对孔径。

8.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:可见光通道、近红外通道光阑设置在折反射式次镜(2)前表面上,通过控制反射膜口径限制可见光和近红外两个通道的相对孔径;微光通道光阑设置在折反射式次镜(2)前表面上,通过控制前表面膜系口径来限制微光通道的相对孔径。

9.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的微光通道焦面器件(6)为线阵TDICCD器件。

10.根据权利要求1所述的空间折反射式多通道成像光学系统,其特征在于:所述的可见光通道焦面器件(8)为线阵TDICCD器件;所述的近红外通道焦面器件(9)为线阵TDICCD器件。

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