[发明专利]微透镜阵列模具的制作方法

权利要求书

1.一种微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于包括如下步骤：

步骤一：采用UV-LIGA工艺制成表面具有柱状微细孔阵列结构的金属镍模具；

一．SU8胶微细柱阵列的制作：首先在硅基板上涂布SU8胶，然后利用光刻技术制作SU8胶微细柱阵列；

二．SU8胶微细柱的表面金属化处理：在SU8胶微细柱表面及硅基板上表面进行金属化处理，制作一层电铸种子层；

三、利用微电铸工艺在电铸种子层表面电铸镍材料，形成金属镍模具；

四、SU8胶微细柱的脱除：先将硅基板从镍模具上剥离，然后通过SU8胶专用去胶剂去除SU8胶微细柱，从而在镍模具上形成柱状微细孔阵列，最终制成所述的具有柱状微细孔阵列的镍模具；

步骤二：在真空环境下将UV固化胶涂覆于镍模具的柱状微细孔阵列之内；

步骤三：旋转步骤三所得产品，使一部分UV固化胶均匀地旋转出微细孔之外，形成稳定的凹面形状，之后利用紫外光源固化UV固化胶，即可获取所述的微透镜阵列模具。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤一中的第一点，在涂布SU8胶之前，硅基板先经过RCA清洗法进行清洗及烘烤。

3.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤一中的第一点，在硅基板上涂布SU8胶采用两段式旋转涂布，即将硅基板放在旋胶机的承片架上，滴上适量的SU8胶，先以低速旋转的方式，使SU8胶慢慢旋开至硅基板的边缘，再以高速旋转控制SU8胶的厚度。

4.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤一中的第一点，利用光刻技术制作SU8胶微细柱阵列具体步骤为：

（a）前烘；

对涂布在硅基板上的SU8胶进行前烘，采用两段式前烘工艺，第一阶段采用65~70℃烘烤10~15分钟，第二阶段采用100~110℃烘烤15~20分钟，冷却后进行后续曝光步骤；

（b）曝光；

使用波长为350~400nm的近紫外光的曝光机进行曝光，进行掩模板的图像转移，参照SU8胶的曝光参数，设定曝光强度为520mJ，曝光时间为120秒；

（c）曝光后烘烤；

采用65℃和95℃两段式烘烤，即先将加热板加热至65℃后，将硅片置于其上烘烤5分钟，然后缓慢升温至95℃，烘烤5分钟，然后缓慢降温至室温； 

（d）显影；

将硅基板放置于显影液中，选用的显影液为丙烯乙二醇单甲基醚醋酸盐，浸泡10~15分钟，浸泡期间需晃动显影液，使其获得最佳的显影效果，显影后呈现出SU8胶微细柱阵列结构； 

（e）后烘；

采用两段式加温，在70~80℃下烘烤10~15分钟，再升温至100~110℃下烘烤10~15分钟，即可形成SU8胶微细柱。

5.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤一中的第二点，通过蒸镀或者溅射方法进行金属化处理。

6.根据权利要求1或5所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述电铸种子层之内还设置有一层粘着层。

7.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤二涂覆UV固化胶之后，通过辊涂机将SU8胶表面多余的UV固化胶挤出涂平。

8.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤三的旋转方式采用先低速后高速的两段式旋转。

9.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述步骤三所得微透镜阵列模具表面以溅射法镀有一层镀镍金属膜或镀铬金属膜。

10.根据权利要求1所述的微透镜阵列模具的制作方法，其特征在于：所述的微细孔底面形状为圆形或等边形。