[发明专利]氟硅三嵌段共聚物及其制备方法

权利要求书

1.一种氟硅三嵌段共聚物，其特征在于聚合物为聚二甲基硅氧烷-b-聚甲基丙烯酸甲酯-b-聚甲基丙烯酸七氟丁基酯，其结构式为：

其中，x,y,z分别为各链段聚合度。

2.如权利要求1所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于先制备大分子引发剂PDMS-Br，再用ARGET ATRP制备两嵌段聚合物PDMS-b-PMMA-Br，最后用ARGET ATRP制备氟硅三嵌段聚合物PDMS-b-PMMA-b-PHFMBA-Br，具体步骤如下：

2.1将1mol单羟基封端的聚二甲基硅氧烷和1.1～10mol有机碱加到1～100mol有机溶剂A中；在低温下缓慢滴加用1～100mol有机溶剂B稀释的1.1～10mol含有引发剂位点的原料，1～3小时后，将体系恢复至室温；继续搅拌1～24小时，将体系浓缩，用二氯甲烷溶解，并依次用饱和碳酸氢钠水溶液、稀盐酸和氯化钠水溶液洗涤，有机相干燥处理后，浓缩得到产物大分子引发剂PDMS-Br；

2.2将1mol大分子引发剂PDMS-Br，50～500mol甲基丙烯酸甲酯MMA，0.0025～0.1mol过渡金属盐，0.01～0.4mol配体及50～500mol溶剂一起加入到反应瓶中，通入氮气0～60分钟，加热到60～95℃之间，然后加入0.025～1mol还原剂；密闭体系下反应2～48小时，敞口搅拌，并在不良溶剂中沉淀，得到PDMS-b-PMMA-Br；

2.3将1mol大分子引发剂PDMS-b-PMMA-Br，50～500mol甲基丙烯酸七氟丁基酯（HFBMA），0.0025～0.1mol过渡金属盐，0.01～0.4mol配体及50～500mol溶剂一起加入到反应瓶中，通入氮气0～60分钟，加热到60～95℃之间，然后加入0.025～1mol还原剂；密闭体系下反应2～48小时，敞口搅拌，并在不良溶剂中沉淀，得到PDMS-b-PMMA-b-PHFBMA-Br。

3.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.1中所述的有机碱为4-二甲氨基吡啶、三乙胺、吡啶、三甲胺盐酸盐/三乙胺混合物中的一种。

4.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.1中所述的溶剂A和溶剂B为四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、苯、甲苯、二甲苯中的任一种。

5.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.1中所述的含有引发剂位点的原料为2-溴异丁酰溴，2-氯异丁酰氯，2-溴异丁酰氯，2-氯异丁酰溴；2-溴丙酰溴，2-氯丙酰氯，2-溴丙酰氯，2-氯丙酰溴；α-溴苯乙酰溴，α-溴苯乙酰氯，α-氯苯乙酰溴，α-氯苯乙酰氯中的一种。

6.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.1中所述的反应时间为1～48小时。

7.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中所述的过渡金属盐为铜盐、铁盐、镍盐中的一种。

8.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中所述的配体为五甲基二乙烯三胺、三（2-吡啶）甲基胺、三（2-甲基胺基）乙胺中的一种。

9.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中所述的溶剂为甲苯、二甲苯、苯甲醚、N,N-二甲基甲酰胺中的一种。

10.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中所述的还原剂为辛酸亚锡、葡萄糖、乳糖、果糖、肼、苯肼、抗坏血酸中的一种。

11.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中所述的不良溶剂为乙醚、石油醚和正己烷中的一种。

12.如权利要求2所述的氟硅三嵌段共聚物的制备方法，其特征在于其合成步骤2.2和2.3中在敞口搅拌步骤后，还包括通过氧化铝柱除过渡金属离子的步骤，所述氧化铝柱为中性氧化铝柱。