[发明专利]放射性面源自动模拟刻度气体源探测效率装置及方法

权利要求书

1.一种放射性面源自动模拟刻度气体源探测装置，其特征在于：

包括放射源托盘（1）、支撑柱（2）、套管（3）、底座（4）、漏气孔（5）、面源（8）、CZT探测器（9）；

所述放射源托盘（1）中间镂空，其下底面与至少两个支撑柱（2）固连；

所述底座（4）中间镂空，其上底面与至少两个套管（3）固连；

所述支撑柱（2）和套管（3）数量一致且位置一一对应，所述支撑柱（2）的外直径与套管（3）的内直径精确相等；

所述套管（3）的底面中心设置有漏气孔（5）；所述漏气孔（5）与外界空气相通；

所述面源（8）放置在放射源托盘（1）中间位置，所述面源（8）的镀层直径小于放射源托盘（1）镂空直径，所述面源（8）的底衬直径大于镂空直径；

所述CZT探测器（9）放置在底座（4）的中心位置，所述CZT探测器（9）底面对角线长度需小于底座（4镂空直径。

2.根据权利要求1所述的放射性面源自动模拟刻度气体源探测装置，其特征在于：还包括放置在套管（3）内的中间镂空的支撑柱垫圈（7）。

3.根据权利要求1或2所述的放射性面源自动模拟刻度气体源探测装置，其特征在于：还包括设置在底座（4）下方的至少三个垫圈（6）。

4.根据权利要求3所述的放射性面源自动模拟刻度气体源探测装置，其特征在于：所述放射源托盘（1）、支撑柱（2）、套管（3）、底座（4）、垫圈（6）、支撑柱垫圈（7）的材料为不锈钢，所述面源（8）的底衬材料为铝。

5.基于权利要求1至4所述系统的放射性面源自动模拟刻度气体源探测方法，其特征在于：包括以下步骤：

1】根据要求的下降速率设定漏气孔（5）的尺寸；

2】将面源（8）放置在放射源托盘（1）中间位置，将CZT探测器（9）放置在底座（4）的中心位置；

3】将所有支撑柱（2）放入相应的套管（3）中；

4】当面源匀速下降时开始计时，探测器探测面源产生的总的峰计数；

5】计算气体源的探测效率：

ϵV=NA·Pγ·t]]>

式中：

N为面源在整个运动过程中在晶体内产生的总的峰计数；

A为面源活度(Bq)；

Pγ为γ射线发射几率；

t为面源下降时间(s)。

6.根据权利要求5所述放射性面源自动模拟刻度气体源探测方法，其特征在于：所述步骤3还包括控制面源模拟气体源的高度的步骤，其采用在套管（3）内放入不同高度的支撑柱垫圈（7）来调节支撑柱（2）深入套管（3）的深度的方式。