[发明专利]一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统有效
申请号: | 201310296570.5 | 申请日: | 2013-07-10 |
公开(公告)号: | CN103425035A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 闫兴鹏;蒋晓瑜;裴闯;刘军辉;徐丙立;汪熙;赵锴;赵哲 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军装甲兵工程学院 |
主分类号: | G03H1/22 | 分类号: | G03H1/22;G03H1/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100072 北京市丰*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 采用 异型 模板 全息 体视 打印 系统 | ||
1.一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,至少含有:激光光源(1),分光镜(2),扩束准直系统(3),空间光调制器(4),计算机(5),全反射镜(6),聚焦透镜(7),全息图记录材料(8),异型掩模板(9),目标物(10),CCD摄像机(11)。其中,由CCD摄像机(11)及计算机(5)构成变换视差图像获取系统。CCD摄像机(11)拍摄目标物(10)的多视角图像(12),计算机(5)通过采样获得变换视差图像(13),并依次写入到空间光调制器(4)中。激光光源(1)发出的光束被分光镜(2)分光,一路经过扩束准直后,被加载了变换视差图像(13)的空间光调制器(4)调制;另一路被全反射镜(6)反射。两束光分别经过聚焦透镜(7)后,透过异型掩模板(9),在全息图记录材料(8)上曝光记录干涉条纹。同步控制变换视差图像(13)的切换和异型掩模板(9)位置的移动,实现目标物(10)的全息体视图写入。
2.根据权利要求1所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,所述的全息体视图打印系统在全息记录材料(8)上实现目标物(10)的全息体视图打印输出。
3.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,打印在全息图记录材料(8)上的全息体视图,能够在激光光源(1)的照射下,实现目标物(10)的多视角三维再现。
4.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,在曝光过程中,全息图记录材料(8)的表面放置了具有软边光阑的异型掩模板(9),其透过率函数为有限孔径的高斯(Shaped Gaussian)函数或者布莱克曼(Shaped Blackman)函数。
5.根据权利要求1或4所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,所述的异型掩模板(9),其形状为一维狭缝或者二维块状掩模,分别用来打印水平视差和全视差全息体视图。
6.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,全息体视图干涉条纹的记录,采用单向曝光或者双向曝光的方法。
7.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,由CCD摄像机(11)及计算机(5)构成变换视差图像获取系统,采用多个CCD摄像机或者单个CCD摄像机移动的方法,拍摄目标物(10)的多视角图像(12),由计算机(5)通过采样的方法获得目标物(10)的变换视差图像(13)。
8.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,所述全息图记录介质(8)是具有高亮度衍射特性的全息记录介质材料,为卤化物银盐干板和光折变聚合物薄膜,且对于激光光源(1)的波长敏感。
9.根据权利要求1或2所述的一种采用异型掩模板的全息体视图打印系统,其特征在于,所述的空间光调制器(4)是透射型,或者是反射型的空间光调制器,调制模式为幅值调制,或者为相位调制。
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