[发明专利]一种薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法

权利要求书

1.一种薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，包括以下步骤：

步骤（1）：用碱性清洗剂溶液对玻璃基底刷洗；

步骤（2）：采用去离子水对刷洗后的玻璃基底进行冲洗；

步骤（3）：采用碱性清洗剂溶液对玻璃基底进行超声清洗；

步骤（4）：采用去离子水对碱性清洗剂溶液清洗后的玻璃基底进行冲洗；

步骤（5）：采用去离子水对玻璃基底进行超声清洗；

步骤（6）：采用氢氧化钠溶液对玻璃基底进行超声清洗；

步骤（7）：采用去离子水对玻璃基底进行冲洗。

步骤（8）：采用去离子水对玻璃基底进行超声清洗。

步骤（9）：采用去离子水对玻璃基底进行冲洗。

步骤（10）：吹干玻璃基底。

2.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于：在所述步骤（1）中，对玻璃基底刷洗时，采用的刷洗工具的材质为尼龙。

3.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于：在所述步骤（2）、（4）、（7）、（9）中，去离子水冲洗时使用扇形喷头，喷出的扇形水流两边缘之间的夹角为60゜～120゜，扇形水流面与玻璃表面交线与玻璃移动方向垂直，扇形水流面与玻璃面之间夹角为45゜～90゜。

4.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于：在所述步骤（1）和（3）中，碱性清洗剂溶液中碱性清洗剂与去离子水体积比为1:1～1:19，所述碱性清洗剂为市售产品的一种。

5.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于：在所述步骤（3）中，超声清洗频率为28KHz，清洗水温为40～60℃，清洗时间为3～15分钟。

6.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于：在步骤（5）和（8）中，超声清洗的频率为40KHz，清洗水温为40～60℃，清洗时间为3～15分钟。

7.根据权利要求1所述的薄膜太阳能电池玻璃基底的清洗方法，其特征在于，在步骤（6）中，氢氧化钠溶液中NaOH的质量百分比为0.5%～20%，溶剂为去离子水，超声频率为40KHz，清洗水温为40～60℃，清洗时间为3～20分钟。