[发明专利]软磁芯及其制造方法

权利要求书

1.一种软磁芯，该软磁芯包括：

软磁金属粉末；

四氧化三铁层，该四氧化三铁层形成在所述软磁金属粉末的表面上；以及

绝缘层，该绝缘层形成在所述四氧化三铁层上。

2.根据权利要求1所述的软磁芯，其中，所述四氧化三铁层的厚度为50nm至700nm。

3.根据权利要求1所述的软磁芯，其中，所述软磁金属粉末的平均粒径为50μm至200μm。

4.根据权利要求1所述的软磁芯，其中，所述软磁金属粉末为铁基粉末。

5.根据权利要求4所述的软磁芯，其中，所述铁基粉末包括硅、铝、铬、钼和硼中的至少一种合金元素。

6.根据权利要求1所述的软磁芯，其中，所述绝缘层的厚度为30nm至300nm。

7.根据权利要求1所述的软磁芯，其中，所述绝缘层包括磷酸化合物。

8.一种软磁芯的制造方法，该方法包括：

制备软磁金属粉末；

在所述软磁金属粉末上形成绝缘层；

制备浆料，该浆料包含其上形成有所述绝缘层的所述软磁金属粉末；

压模所述浆料以形成模芯；以及

氧化包含在所述模芯内的所述软磁金属粉末的表面以形成四氧化三铁层。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述四氧化三铁层的形成通过热处理所述模芯来完成。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述四氧化三铁层的厚度为50nm至700nm。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，所述软磁金属粉末的平均粒径为50μm至200μm。

12.根据权利要求8所述的方法，其中，所述软磁金属粉末为铁基粉末。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述铁基粉末包括硅、铝、铬、钼和硼中的至少一种合金元素。

14.根据权利要求8所述的方法，其中，所述绝缘层的厚度为30nm至300nm。

15.根据权利要求8所述的方法，其中，所述绝缘层包括磷酸化合物。

16.根据权利要求8所述的方法，其中，该方法还包括在形成所述绝缘层的步骤和制备所述浆料的步骤之间在所述绝缘层上形成润滑蜡涂层的步骤。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述润滑蜡涂层的厚度为300nm至700nm。

18.根据权利要求16所述的方法，其中，包括在所述润滑蜡涂层中的润滑蜡的熔点为100℃至150℃。

19.根据权利要求16所述的方法，其中，所述润滑蜡包括乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸锌和聚乙烯中的至少一者。