[发明专利]一种无机全固态电致变色器件及其制备方法

权利要求书

1.一种无机全固态电致变色器件，其结构为：玻璃基片，以及依次在所述玻璃基片上沉积的透明导电层A/电致变色层/离子导电层/透明导电层B；

其中，所述透明导电层A和透明导电层B均为掺铝氧化锌(ZAO)薄膜，所述电致变色层为氧化钨(WO₃)薄膜，所述离子导电层为钛酸锂(Li₄Ti₅O₁₂)薄膜。

2.如权利要求1所述的一种无机全固态电致变色器件，其特征在于：所述透明导电层A的厚度为500-900nm；所述电致变色层的厚度为50-800nm；所述离子导电层的厚度为200-350nm；所述透明导电层B的厚度为500-900nm。

3.如权利要求1所述的一种无机全固态电致变色器件，其特征在于：所述透明导电层A的厚度为600-800nm；所述电致变色层的厚度为4000-600nm；所述离子导电层的厚度为250-300nm；所述透明导电层B的厚度为600-800nm。

4.如权利要求1-3任一项所述的一种无机全固态电致变色器件，其特征在于：所述钛酸锂(Li₄Ti₅O₁₂)薄膜为具有尖晶石结构的多晶膜。

5.如权利要求1-3任一项所述的一种无机全固态电致变色器件，其特征在于：所述掺铝氧化锌(ZAO)薄膜为具有六角纤锌矿结构的多晶膜。

6.一种如权利要求1所述无机全固态电致变色器件的制备方法，其特征在于：依次包括(1)采用直流磁控溅射法在清洗干净的玻璃基片上制备ZAO薄膜的过程；(2)采用直流磁控溅射法在所述ZAO薄膜上制备WO₃薄膜的过程；(3)采用射频磁控溅射法在所述WO₃薄膜上制备Li₄Ti₅O₁₂薄膜的过程；(4)采用直流磁控溅射法在所述Li₄Ti₅O₁₂薄膜上制备ZAO薄膜的过程。

7.如权利要求6所述的无机全固态电致变色器件的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中溅射靶材为Li₄Ti₅O₂陶瓷靶，所述Li₄Ti₅O₂陶瓷靶为氧化锂和金属钛经均化真空压制成型后，真空烧结而成的靶材，其中锂元素、钛元素和氧元素的摩尔比是4∶5∶2。