[发明专利]基板处理系统

说明书

本申请是申请日为2010年03月09日、发明名称为“基板处理系统和基板处理方法”的申请号为201010132170.7专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及对液晶玻璃等基板实行焙烧（焼成）等热处理的基板处理系统。

背景技术

当在彩色滤光器制造工程等中对液晶玻璃等基板进行热处理时，为了有效地进行基板的搬入、处理和搬出，往往使用系统化了的结构。

在此用图1简单说明以往的基板处理系统中的基板输送的控制内容。以往，从图外的搬入部把未处理的工件取出的输送机械手22，例如从第一处理室16的多层架166的最上层搬出处理完的工件，然后把未处理工件搬入到该空出来的层中。此后输送机械手22把处理完的工件输送到图外的搬出部。接着，输送机械手22再从搬入部取出未处理工件，这次从第一处理室16的多层架166的从上数的第二层搬出处理完的工件，然后把未处理工件搬入到该空出来的层中。反复进行同样的动作，输送机械手22首先对第一处理室16的多层架的从最上层到最下层的各层进行搬出处理完的工件的处理和搬入未处理工件的处理。在完成对第一处理室16的多层架166的从最上层到最下层的各层的搬出处理完的工件的处理和搬入未处理工件的处理后，与上述相同，对第二处理室18的多层架186的从最上层到最下层的各层进行搬出处理完的工件的处理和搬入未处理工件的处理。

在这种基板处理系统中，在对基板进行热处理时，涂敷在基板上的具有升华性质的成分（例如含有光致抗蚀剂的具有升华性质的成分）气化，因该升华物造成炉内的洁净度降低。

因此，以往对利用通风道等把产生的升华物从炉内吸出的排气系统想了各种办法。例如有一种热处理装置为了降低升华气体的浓度，对换气用的空气进行加热后，导入到通过工件的循环空气的上游部位，并且把一部分通过工件的空气排出（例如参照日本专利公开公报特开平10－141868号）。

在包括上述的日本专利公开公报特开平10－141868号的热处理装置在内的以往的热处理装置中，如果要提高生产率（throughput），就必须要尽可能缩短把基板搬入炉中的时间间隔，但是如果缩短搬入基板的时间间隔，则为了使升华物气体的浓度低，就必须要增加排气量。

而且，伴随排气量的增加，排热量或供气的加热容量也要增加，其结果为了使炉内保持在设定温度，就必须从加热器向炉内提供更多的热量。

因此，在包括上述的日本专利公开公报特开平10－141868号的热处理装置在内的以往的热处理装置中，电耗必然与生产率的提高成比例增加，因而要削减电耗就要牺牲生产率。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够不牺牲生产率就能实现削减电耗的基板处理系统。

本发明的基板处理系统对基板进行热处理。作为基板的例子可以举出：液晶显示器和等离子体显示器用的玻璃基板、半导体装置中使用的半导体晶片等。

该基板处理系统包括输送部、多个处理室、搬入部、搬出部以及控制部。输送部具有输送基板的输送机械手。多个处理室分别配置在输送部的周围。各处理室具有在搬入和搬出基板时能够打开或关闭的门。

控制部至少控制输送部和处理室。控制部控制输送机械手和门的动作，使得输送机械手不是连续对同一个处理室进行搬入或搬出，而是顺次对多个处理室进行搬入或搬出。

本发明提供一种基板处理系统，用于对基板进行热处理，所述基板处理系统包括：多个处理室，对基板进行热处理；输送机械手，一次仅输送一个基板；搬入部，容纳要搬入所述处理室的未处理基板；搬出部，容纳从所述处理室搬出后的基板；以及控制部，控制所述处理室和所述输送机械手，所述处理室具有：多层架，能够把基板支承在各层上；以及门，在搬入和搬出基板时对应于多层架的所希望的层能够打开或关闭，所述控制部控制所述输送机械手和所述门的动作，把搬入到一个处理室内后经过了规定时间的基板通过所述输送机械手，从该一个处理室搬出并将搬出的基板存放在所述搬出部，接着使所述输送机械手移动到所述搬入部并握持未处理基板，把未处理基板搬入到该一个处理室内，然后，把搬入到另一个处理室内后经过了规定时间的基板通过所述输送机械手，从该另一个处理室搬出并存放于所述搬出部，接着使所述输送机械手移动到所述搬入部并握持未处理基板，把未处理基板搬入到该另一个处理室内，在所述输送机械手从所述处理室离开期间使所述门关闭，并且通过以后对所述多个处理室也顺次继续这样的动作，来对所述多个处理室内的支承在所述多层架上的所有基板进行规定时间的热处理。