[发明专利]缺陷检查方法及缺陷检查装置

权利要求书

1.一种缺陷检查方法，包括：

照射工序，从光源向被检查物照射可见光和不可见光；

数据生成工序，分别接收由被检查物反射或透过被检查物的可见光和不可见光，并根据各受光量分别生成拍摄数据；

判定工序，当比较可见光和不可见光下的、在所述拍摄数据的变动区域的该拍摄数据的变动程度而得的结果属于预先存储的成为缺陷的范围内时，判定为缺陷。

2.根据权利要求1所述的缺陷检查方法，其中，所述不可见光为红外线或紫外线中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的缺陷检查方法，其中，

在可见光和不可见光下分别求出特定的商值来作为所述拍摄数据的变动程度，所述特定的商值是指，在所述数据生成工序中生成的拍摄数据除以预先拍摄的没有缺陷的被检查物的拍摄数据而得到的值，

在所述判定工序中，通过将可见光的所述商值和不可见光的所述商值之差与预先存储的每一缺陷种类的值相比较，来判别缺陷种类。

4.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，在所述照射工序中照射所述红外线的情况下，相比于长波长，照射短波长的可见光。

5.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，在所述照射工序中照射所述紫外线的情况下，相比于短波长，照射长波长的可见光。

6.根据权利要求3所述的缺陷检查方法，其中，当可见光的所述商值和不可见光的所述商值之差在阈值以下时，判定为含有金属的缺陷。

7.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，用Si系半导体受光元件来分别接收可见光和不可见光。

8.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，在一台摄像机上分别具备用于接收可见光和不可见光的元件。

9.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，用分光元件对可见光和不可见光进行分光，来分别接收可见光和不可见光。

10.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，所述光源为波长区域受限制的光源。

11.根据权利要求2所述的缺陷检查方法，其中，使从所述光源照射的光通过滤波器，来限制波长区域。

12.一种缺陷检查装置，其具备：

照射部，从光源向被检查物照射可见光和不可见光；

数据生成部，分别接收由被检查物反射或透过被检查物的可见光和不可见光，并根据各受光量分别生成拍摄数据；

判定部，当比较可见光和不可见光下的、在所述拍摄数据的变动区域的该拍摄数据的变动程度而得的结果属于预先存储的成为缺陷的范围内时，判定为缺陷。