[发明专利]一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备无效
申请号: | 201310303597.2 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN103388125A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 刘战合 | 申请(专利权)人: | 有度功能薄膜材料扬州有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C03C17/00 |
代理公司: | 江苏银创律师事务所 32242 | 代理人: | 何震花 |
地址: | 225800 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 节能 辐射 玻璃 立式 磁控溅射 生产 设备 | ||
技术领域
本发明涉及节能低辐射玻璃生产设备。
背景技术
节能低辐射镀膜玻璃是最新开发的一种采光材料,它通过高科技方法在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的膜系,极大地降低了玻璃表面辐射热或紫外线等的透过率,并提高了玻璃的光谱选择性,玻璃镀上节能低辐射膜后,可见光可以有效地透过膜系和玻璃,但有害的紫外线部份就会有效地被抑制,肉眼看不见的红外线,80%以上被膜系反射。透过节能低辐射镀膜玻璃的太阳能光谱,经膜系过滤后进入室内的是“冷光”,节能低辐射镀膜玻璃成功地解决了玻璃采光与节能难以兼顾的矛盾。特别是当节能低辐射镀膜玻璃加工合成为中空玻璃后,与普通单体玻璃比较,夏季可以节省降温能源60%以上,冬季可以节省采暖能源70%以上。因此,使用节能低辐射镀膜玻璃的中空玻璃可以有效节省空调费或取暖费。同时,节能低辐射镀膜玻璃的中空玻璃具有良好的隔音性能,噪声可以降低34dB以上。
目前低辐射镀膜玻璃无论是采用在线的沉积方法,还是采用离线的薄膜沉积方法,其所采用的设备都是卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线,而且这一类的腔体在制造时为了降低成本,多采用易氧化且表面吸附性很强的碳钢制造。在这样的卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线沉积薄膜时,玻璃基板通常放置在水平滚动的传动轴上,通过玻璃与传动轴间的摩擦力带动玻璃水平向前运动,依次通过整条薄膜沉积生产线的各个腔体,所有的薄膜沉积阴极和靶材或者其它类似的气相沉积源都置于玻璃沉积表面的上方。使得在玻璃进行薄膜沉积生产时,由于各种震动导致腔体上的各种氧化物微粒,以及腔体内表面吸附的众多杂质随时都能掉落在玻璃的镀膜面上,这既破坏了所沉积的薄膜的连续一致性,又阻断了薄膜与玻璃基体表面的联结,降低了薄膜的附着力,从而大大的降低了整个沉积薄膜的综合品质。很大程度的缩短了低辐射玻璃的耐候性能和使用功能。同时,在这样的卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线上多布置有大量的加热装置,薄膜沉积时,由于加热装置布置的不一定均匀,也就造成了腔体内的温度场不一定很均匀,导致了整个玻璃上的温度不能均匀一致,在重力和其它各种外力作用下,使得玻璃的上表面变形很不一致,明显的影响了所沉积的薄膜在整个玻璃表面的均匀性,产生了很难以克服的边沿效应,也就降低了整个沉积薄膜的综合品质。过量的加热装置即增加了腔体内部的结构复杂性,加大了腔体内的灰层死角,也增大了生产成本,降低了生产效率。卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线由于必须将整个沉积阴极和靶材或者其它类似的气相沉积源悬挂于腔体上,使得阴极的整体结构复杂笨重,完全没有可调节的空间,安装及调试极为困难,导致薄膜的沉积工艺难以实现。
发明内容
本发明所要解决的问题:为了解决现有技术下低辐射玻璃质量不足的问题。
为解决上述问题,本发明采用的方案如下:
一种节能低辐射玻璃立式磁控溅射生产设备,由多个镀膜腔体单元串接而成;相邻镀膜腔体单元之间设有工艺隔离腔体;镀膜腔体单元与工艺隔离腔体之间设有隔离阀。所述镀膜腔体单元,包括基座、靶材架、背板座、玻璃架;靶材架、背板座安装于基座上,围成镀膜腔。靶材架上设有靶材阴极,靶材架与基座之间设有开合装置。所述玻璃架与垂直面具有0-10度的角度,所述靶材阴极与垂直面具有0-10度的角度。所述的靶材架上的靶材阴极采用自闭合形式的非平衡磁场布置形式的多阴极的溅射靶位布置。所述玻璃架设有玻璃传送装置。所述开合装置包括:驱动杆、轴套、转轴、传动臂、压力机;驱动杆的一端与靶材架固定,另一端固定在轴套上;轴套套在转轴外;传动臂的一端固定在轴套上;压力机的压力杆顶在传动臂的另一端。所述压力机为液压缸或气压缸。
本发明的技术效果:
1、 本发明薄膜沉积时,玻璃基体在整条生产线内采用立式的输送方式进行,从而避免了卧式的多腔体串列式的连续薄膜沉积生产线薄膜沉积过程中存在的由于各种震动导致腔体上的各种氧化物微粒,以及腔体内表面吸附的众多杂质随时都能掉落在玻璃的镀膜面上,既破坏了所沉积的薄膜的连续一致性,又阻断了薄膜与玻璃基体表面的联结,降低了薄膜的附着力之一不可克服的巨大缺陷,保证了在玻璃的整个表面上所沉积的薄膜均匀一致,附着力牢固可靠。
2、 本发明薄膜沉积时,玻璃基体在整条生产线内采用立式的输送方式进行,这种方式下减少了溅射过程中所产生的各种粉尘落在溅射靶的表面上所引起的弧光放电现象,确保靶材表面溅射的均匀稳定。
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