[发明专利]光敏树脂组合物及使用其的光阻挡层在审

专利信息
申请号: 201310306404.9 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN103885291A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 崔玄武;李昌珉;金智惠;安景源;柳娥凛;任宰范;田桓承;郑周昊 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: G03F7/032 分类号: G03F7/032;G03F7/004;G02B1/04
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光敏 树脂 组合 使用 阻挡
【权利要求书】:

1.一种光敏树脂组合物,包含

(A)粘合剂树脂,包括包含由以下化学式1表示的重复单元的cardo基树脂;

(B)可光致聚合单体;

(C)光致聚合引发剂;

(D)着色剂;和

(E)溶剂:

[化学式1]

其中,在上面的化学式1中,

Y1是酸二酐残基,

R1、R2、R40和R41独立地为氢、取代或未取代的C1至C20烷基基团、取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C1至C20烷氧基基团、取代或未取代的C3至C20环烷基基团、取代或未取代的C3至C20环烯基基团、取代或未取代的C3至C20环炔基基团、取代或未取代的C6至C30芳基基团、或者取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基团,

R1和R2中至少一个或者R40和R41中至少一个为取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基团,

R3至R6独立地为取代或未取代的C1至C20烷基基团、取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C1至C20烷氧基基团、取代或未取代的C3至C20环烷基基团、取代或未取代的C3至C20环烯基基团、取代或未取代的C3至C20环炔基基团、或者取代或未取代的C6至C30芳基基团,

a1至a4独立地为从0至4范围的整数,且

b1和b2独立地为从0至10范围的整数。

2.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述cardo基树脂为由以下化学式2表示的化合物:

[化学式2]

其中,在上面的化学式2中,

Y2是酸二酐残基,

Z1和Z2独立地为酸酐残基,

R7、R8、R13、R14、R42和R43独立地为氢、取代或未取代的C1至C20烷基基团、取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C1至C20烷氧基基团、取代或未取代的C3至C20环烷基基团、取代或未取代的C3至C20环烯基基团、取代或未取代的C3至C20环炔基基团、取代或未取代的C6至C30芳基基团、或者取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基团,

R7和R8中至少一个、R13和R14中至少一个、或者R42和R43中至少一个独立地为取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基团,

R9至R12和R15至R18独立地为取代或未取代的C1至C20烷基基团、取代或未取代的C2至C20烯基基团、取代或未取代的C2至C20炔基基团、取代或未取代的C1至C20烷氧基基团、取代或未取代的C3至C20环烷基基团、取代或未取代的C3至C20环烯基基团、取代或未取代的C3至C20环炔基基团、或者取代或未取代的C6至C30芳基基团,

a5至a12独立地为从0至4范围的整数,

b3至b6独立地为从0至10范围的整数,且

n1是从1至20范围的整数。

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