[发明专利]一种编码孔径光谱成像仪的光谱图像复原方法无效

专利信息
申请号: 201310308864.5 申请日: 2013-07-22
公开(公告)号: CN103400350A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 李芸;李立波;孙鑫;王爽;李然;胡炳樑 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G01J3/28
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 张倩
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 编码 孔径 光谱 成像 图像 复原 方法
【权利要求书】:

1.一种编码孔径光谱成像仪的光谱复原方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤1]组装编码孔径光谱成像仪:

连接成像仪、采集卡和计算机,在成像仪的物距处安装激光器,调整激光器并使其能够照射进成像仪的镜筒内,所述成像仪的镜筒中设置有数字微镜器件DMD;

步骤2]给数字微镜器件DMD进行二维编码:

将二维编码输入计算机,数字微镜器件DMD加载二位编码,在数字微镜器件DMD上得到相应的二维编码模板;所述二位编码模板由0、1元素组成,其中0代表光透过,1代表光不透过;

步骤3]调整单色仪:

3.1】将激光器去掉,换成单色仪;

3.2】调整单色仪不同波段的输出光能量,使得单色仪最小波段的输出光能量大于探测器最小探测能量,单色仪最大波段的输出光能量小于探测器最大探测能量;

步骤4]对编码孔径光谱成像仪进行定标,并将定标结果进行记录:

4.1】根据仪器光谱分辨率及光谱范围,调整单色仪,使其输出多个不同波段的单色光,并照射编码孔径光谱成像仪;

4.2】逐一采集探测器上的不同波段的编码矩阵图像,得到波段与编码矩阵图像的对应关系和投影矩阵;

步骤5]采集二维编码背景图像:

移掉单色仪,通过成像仪、采集卡在计算机上记录采集到的经过二维编码模板调制的二维编码背景图像;

步骤6]采集编码图像:

6.1】在与步骤5同样的环境下,在成像仪的物距处放置观测目标;

6.2】通过成像仪、采集卡在计算机上记录采集到的经过二维编码模板调制的二维编码目标图像;

步骤7]对步骤6]得到的二维编码目标图像做处理:

7.1】将步骤6]得到的二维编码目标图像减去步骤5]所得到的二维编码背景图像,采用降噪算法降低CCD上的噪声干扰,得到降噪后二维编码目标图像;

7.2】对降噪后二维编码目标图像进行归一化处理,进行裁剪,得到目标编码图像;

步骤8]光谱图像复原:

8.1】计算初始值f0=HTg,其中,g是目标编码图像,H是投影矩阵;

8.2】根据公式1和2采用两步迭代收缩阈值算法,计算图像复原数据:

ft=(1-α)ft-2+(α-β)ft-1+βΓλ(ft-1)      (1)

其中:α,β是平衡参数,

Γλ(f)=f+HT(g-Hf)           (2)

8.2.1】令当前t=1,此时ft-1为f0,ft-2为f-1,取f-1为零,将f0=HTg代入公式1中计算f1

8.2.1.1】根据公式3,分别计算f0对应的目标函数X(f0)和f1对应的目标函数X(f1)

X(f)=12||g-Hf||22+τΦTV(f)---(3)]]>

其中,ΦTV(f)=Σi(Δihf)2+(Δivf)2,]]>和代表对f的一阶水平和垂直

差分,Δihf=fi,j,k-fi+1,j,k,]]>Δivf=fi,j,k-fi+1,j,k]]>

8.2.1.2】比较X(f1)和X(f0)的大小,如果X(f1)<X(f0),则执行步骤8.2.2】;

如果X(f1)>X(f0),则调整平衡参数,执行步骤8.2.1】;

8.2.2】取t=2,将f1和f0代入公式1中计算f2;根据公式4判断是否终止迭代:

C(ft,ft-1)=|X(ft)-X(ft-1)|X(ft-1)---(4)]]>

若C(ft,ft-1)<tolerance,则停止迭代,ft即为复原的光谱图像;其中tolerance为终止阈值;

若C(ft,ft-1)>tolerance,则执行8.2.1.2】;

8.2.3】在前两个迭代值的基础上,利用公式1进行估计得到新的值,再重复8.2.2】;

8.2.4】设定阈值,终止函数如公式4所示,终止阈值为tolerance,若C(ft,ft-1)<tolerance,停止迭代,最后得到的数据即为重构的数据立方体,tolerance=10-4

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310308864.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top