[发明专利]一种碳化硅晶须增强氮化硅陶瓷复合材料及其制备方法有效
申请号: | 201310309107.X | 申请日: | 2013-07-23 |
公开(公告)号: | CN103724034A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 陈照峰;余盛杰 | 申请(专利权)人: | 太仓派欧技术咨询服务有限公司 |
主分类号: | C04B35/80 | 分类号: | C04B35/80;C04B35/81;C04B35/622;C04B35/584 |
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地址: | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 增强 氮化 陶瓷 复合材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种碳化硅晶须增强的氮化硅陶瓷基复合材料及其制备方法,其特征在于基体材料为氮化硅陶瓷,增强材料为碳化硅晶须或是碳化硅短切纤维。
2.根据权利要求1所述的碳化硅晶须增强的氮化硅陶瓷基复合材料,其特征在于所述的增强材料体积分数为30~45%。
3.一种如权利要求1所述碳化硅晶须增强的氮化硅陶瓷基复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下顺序的制备步骤:
①将碳化硅晶须与硅粉按照一定比例混合造粒;
②将烧结助剂、单体交联剂、分散剂、引发剂、催化剂加入到上述混合粉料中,以纯水作为介质,用氧化铝作为球磨介质,按照一定比例加入纯水和氧化铝到尼龙罐中,球磨24~36小时;
③经抽滤、烘干,在110~150℃烘箱中保温5~10小时;
④烘干后的粉料通过200~300目筛子过筛,造粒;
⑤按照实际需要取相应重量的粉料,放置于金属或玻璃包套中,抽真空后,放入烧结炉中准备烧结;
⑥采用热等静压烧结,在热等静压炉中1650~1750℃,5~10MPa,烧结1.5~3小时,降温速度约为每小时600~800℃;
⑦陶瓷对陶瓷外型进行加工;
⑧在氮化炉中进行氮化处理,氮化工艺为1100~1300℃初步氮化,1350-1450℃二次氮化获得,与纯氮化硅陶瓷粉体烧结相比具有烧结温度低的优点。
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