[发明专利]接面能障肖特基二极管及其制造方法在审
申请号: | 201310311338.4 | 申请日: | 2013-07-23 |
公开(公告)号: | CN104347732A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 黄宗义;廖文毅 | 申请(专利权)人: | 立锜科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L29/47;H01L21/329;H01L21/28;H01L29/45 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈肖梅;谢丽娜 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接面能障肖特基 二极管 及其 制造 方法 | ||
1.一种接面能障肖特基二极管,其特征在于,包含:
一N型氮化镓基板,具有一上表面;
一氮化铝镓阻障层,形成于该上表面上;
一P型氮化镓层,形成于该N型氮化镓基板上;
一阳极导电层,形成于该氮化铝镓阻障层上,且部分该阳极导电层与该氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触;以及
一阴极导电层,形成于该上表面上,并与该N型氮化镓基板间,形成一欧姆接触,且该阴极导电层与该阳极导电层不直接连接。
2.如权利要求1所述的接面能障肖特基二极管,其中,该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板由该氮化铝镓阻障层隔开。
3.如权利要求2所述的接面能障肖特基二极管,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层、该氮化铝镓阻障层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。
4.如权利要求1所述的接面能障肖特基二极管,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。
5.一种接面能障肖特基二极管制造方法,其特征在于,包含:
提供一N型氮化镓基板,具有一上表面;
形成一氮化铝镓阻障层于该上表面上;
形成一P型氮化镓层于该N型氮化镓基板上;
形成一阴极导电层于该上表面上,并与该N型氮化镓基板间,形成一欧姆接触;以及
形成一阳极导电层于该氮化铝镓阻障层上,且部分该阳极导电层与该氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触,且该阴极导电层与该阳极导电层不直接连接。
6.如权利要求5所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板由该氮化铝镓阻障层隔开。
7.如权利要求6所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层、该氮化铝镓阻障层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。
8.如权利要求5所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。
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