[发明专利]接面能障肖特基二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310311338.4 申请日: 2013-07-23
公开(公告)号: CN104347732A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 黄宗义;廖文毅 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/47;H01L21/329;H01L21/28;H01L29/45
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈肖梅;谢丽娜
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 接面能障肖特基 二极管 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种接面能障肖特基二极管,其特征在于,包含:

一N型氮化镓基板,具有一上表面;

一氮化铝镓阻障层,形成于该上表面上;

一P型氮化镓层,形成于该N型氮化镓基板上;

一阳极导电层,形成于该氮化铝镓阻障层上,且部分该阳极导电层与该氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触;以及

一阴极导电层,形成于该上表面上,并与该N型氮化镓基板间,形成一欧姆接触,且该阴极导电层与该阳极导电层不直接连接。

2.如权利要求1所述的接面能障肖特基二极管,其中,该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板由该氮化铝镓阻障层隔开。

3.如权利要求2所述的接面能障肖特基二极管,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层、该氮化铝镓阻障层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。

4.如权利要求1所述的接面能障肖特基二极管,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。

5.一种接面能障肖特基二极管制造方法,其特征在于,包含:

提供一N型氮化镓基板,具有一上表面;

形成一氮化铝镓阻障层于该上表面上;

形成一P型氮化镓层于该N型氮化镓基板上;

形成一阴极导电层于该上表面上,并与该N型氮化镓基板间,形成一欧姆接触;以及

形成一阳极导电层于该氮化铝镓阻障层上,且部分该阳极导电层与该氮化铝镓阻障层,形成肖特基接触,且该阴极导电层与该阳极导电层不直接连接。

6.如权利要求5所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板由该氮化铝镓阻障层隔开。

7.如权利要求6所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层、该氮化铝镓阻障层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。

8.如权利要求5所述的接面能障肖特基二极管制造方法,其中,该阳极导电层、该氮化铝镓阻障层、该N型氮化镓基板与该阴极导电层形成一肖特基二极管,且该P型氮化镓层与该N型氮化镓基板形成一PIN二极管,其中,该肖特基二极管与该PIN二极管并联。

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