[发明专利]一种基于石墨烯的可饱和吸收镜及制造方法有效
| 申请号： | 201310312487.2 | 申请日： | 2013-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN103368058A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 义理林;郑燃;李伟雄;胡卫生 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H01S3/11 | 分类号： | H01S3/11;G02F1/35;B82Y20/00 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 石墨 饱和 吸收 制造 方法 | ||
1.一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于在，包括以下步骤：
（1）在10cm*10cm的大面积基底上生长石墨烯；
（2）在所述石墨烯表面镀一层二氧化硅保护层，得到基底-石墨烯-二氧化硅层；
（3）将所述基底-石墨烯-二氧化硅层切割成2mm*2mm的小片；
（4）将光纤端面打磨平整后与所述小片上镀二氧化硅的一面平整对接，并将所述光纤端面与所述小片固定并封装在一起。
2.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，生长所述石墨烯的基底是金属箔。
3.如权利要求2中所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，所述金属箔是铜箔、金箔、银箔、铝箔中的一种。
4.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，生长所述石墨烯的基底是由数层二氧化硅与二氧化钛组合成的反射层，其中最上层生长有所述石墨烯的是二氧化硅。
5.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，生长所述石墨烯的基底是涂有金膜或者银膜的二氧化硅反射层。
6.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，采用化学气相沉积法在所述基底上生长所述石墨烯。
7.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，所述石墨烯是单层、双层或者多层。
8.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，采用蒸镀方式在所述石墨烯表面镀所述二氧化硅。
9.如权利要求1所述的一种基于石墨烯的可饱和吸收镜的制造方法，其特征在于，采用玻璃封装方式把所述光纤端面与所述小片封装在一起。
10.一种基于石墨烯的可饱和吸收镜，其特征在于，用权利要求1-9任一项所述的方法制得。
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