[发明专利]流体过滤系统

权利要求书

1.流体过滤系统，包括：

(a)具有入口和出口的壳体；

(b)设置在壳体内的过滤介质元件，该过滤介质元件具有流体入口侧和流体出口侧、并且操作成对所有进入流进行过滤，其中，该流体入口侧与壳体入口流体连通；

(c)具有入口和出口的辐照室，该入口与过滤介质元件的流体出口侧相连通，该出口与壳体出口流体连通；

(d)设置于辐照室中的至少一个紫外(UV)灯，其中，该至少一个紫外灯上裹置有石英套管；

(e)其中，来自过滤介质元件的出口侧的流体依次向下流入辐照室的入口、然后向上穿过辐照室流向壳体出口，其中，所有流向壳体出口的流体都经过辐照。

2.根据权利要求1所述的系统，还包括位于辐照室中的多个紫外灯和多个过滤介质元件，每个紫外灯都具有裹置在该紫外灯上的石英套管。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述过滤介质元件设置于辐照室的至少一部分周围。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，所述过滤介质元件环状地设置于辐照室周围。

5.根据权利要求1所述的系统，还包括布置成用于产生流入辐照室的入口的涡旋的旋流叶片组，该旋流叶片组具有产生顺时针方向的涡旋的第一环形叶片阵列和产生逆时针方向的涡旋的第二环形叶片阵列。

6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述过滤介质元件具有管状结构。

7.根据权利要求6所述的系统，还包括紧邻过滤介质元件的入口侧设置的清洁盘；和

驱动机构，该驱动机构在选择性地启动后可操作成沿着过滤介质元件的入口侧移动清洁盘，以用于从管状过滤介质元件的入口侧表面上除去聚集的污垢。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，壳体入口在竖直方向上布置在出口下方，辐照室包括竖直取向的管状元件，其中，入口位于其下端，出口位于其上端；和

过滤介质元件包括设置在管状辐照室元件周围的多个竖直取向的管状元件，其中，介质元件的管状元件的下端仅与壳体入口连通，介质元件的管状元件的上端仅与管状辐照室的下部入口端连通；和

管状辐照室的上部出口端仅与壳体出口连通，其中，流经辐照室的流体竖直向上流动。

9.根据权利要求1所述的系统，其中，辐照室入口包括多个叶片，这些叶片可操作成用于在来自辐照室入口的流体中产生顺时针和逆时针方向的涡旋。

10.根据权利要求1所述的过滤系统，其中，过滤介质元件包括多个竖直设置的管状过滤元件，每个管状过滤元件的下端的外部被隔离成仅与壳体入口连通，而其内部在上端被隔离成仅与辐照室的入口连通；和

还包括反冲洗管，以用于选择性地依次与每个过滤介质管的外部连通，以便从中向泄流口排放反冲洗流体，同时保持通过剩余管的正常流动。

11.根据权利要求1所述的过滤系统，还包括旋流叶片组，该旋流叶片组具有多个包含相对置地导向的旋流叶片的堆叠体，并且操作成用于降低辐照室内的流速梯度。

12.根据权利要求10所述的系统，还包括驱动机构，该驱动机构可操作成用于实现反冲洗管相对于过滤介质管的转动。

13.根据权利要求1所述的系统，还包括设置在辐照室中的清洁盘，该清洁盘在辐照室中运动时可操作成用于清除沿石英套管上的污垢；和

驱动装置，该驱动装置在选择性启动时可操作成用于实现清洁盘沿石英套筒的运动。

14.一种处理流体的方法，包括：

(a)提供具有入口和出口的压力容器，其中该出口设置在该入口上方；

(b)在压力容器内形成辐照室，该辐照室具有与容器出口连通的流体出口和布置在流体出口下方的流体入口；

(c)在压力容器中围绕辐照室设置过滤介质，并使过滤介质的流体入口侧仅与压力容器入口连通和使过滤介质的流体出口侧仅与辐照室的流体入口连通；和

(d)在辐照室中设置紫外(UV)灯并辐照流过其中的流体。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，形成辐照室包括在容器中在竖直取向上设置管，使得来自过滤介质的流体在该管的下端进入该管中并在其上端流出。