[发明专利]一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法

权利要求书

1.一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，其使用的原料包括：加工人造水晶产生的废石英颗粒、高纯水；其特征是：步骤（1）将加工人造水晶产生的废石英颗粒送入磁选机，反复通过磁选机三次，让磁选机中强大的磁场将废石英颗粒中含金属的颗粒吸附并排出；步骤（2）将去除含金属的石英颗粒后剩余的石英颗粒送入水洗机，用高纯水清洗并除去漂浮物；步骤（3）将清洗后的石英颗粒送入真空脱羟炉，加热至1040-1060℃，保温脱羟5.5-6.5小时，然后进行人工分拣，去除变色和尖长的石英颗粒；步骤（4）将脱羟后的石英颗粒送入水检机，水检的目的是去除石英颗粒中的不透明颗粒，然后送入浮选机，浮选去除石英颗粒中的漂浮物和杂质；步骤（5）将去杂的石英颗粒送入超声清洗机，加入高纯水，放入超声波，将超声清洗机中温度升高至48-52℃，使用超声加水清洗18-22分钟；步骤（6）将超声清洗后的石英颗粒送入脱水桶用专用脱水袋脱去水分后送入无尘烘箱，在290-310℃的温度下烘干6-7小时后烘干结束，随即送入真空包装机包装即得成品。

2.根据权利要求1所述的一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，其步骤（3）特征是：所述的真空脱羟炉内脱羟温度为1050℃，脱羟时间为6.0小时。

3.根据权利要求1所述的一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，其步骤（5）特征是：所述的超声清洗机清洗温度为50℃，超声清洗时间为20分钟。

4.根据权利要求1所述的一种高纯光学镀膜材料二氧化硅的制备方法，其特征是：步骤（3）所述的石英颗粒的真空脱羟和人工分拣；步骤（5）所述的石英颗粒的烘干和包装均在无尘状态下进行，无尘度为30万级。

5.高纯光学镀膜材料二氧化硅的使用方法是：主要作为眼镜、手机屏幕、显示设备、及滤光片的光学镀膜材料使用。